透明微球的聚光性质及微球阵列光刻的研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 衍射极限和分辨率标准 | 第9-10页 |
| 1.2 微纳光刻技术研究现状 | 第10-15页 |
| 1.3 微球透镜辅助光刻研究进展 | 第15-18页 |
| 1.4 本文研究的意义及内容安排 | 第18-19页 |
| 2 微球透镜辅助光刻法 | 第19-25页 |
| 2.1 微球透镜的聚焦特性 | 第19-20页 |
| 2.2 数值研究方法和软件介绍 | 第20-23页 |
| 2.2.1 数值研究方法 | 第20-23页 |
| 2.2.2 软件介绍 | 第23页 |
| 2.3 微球透镜辅助光刻的应用 | 第23-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-25页 |
| 3 改进型微球辅助光刻研究 | 第25-35页 |
| 3.1 数值研究 | 第25-27页 |
| 3.2 实验研究 | 第27-31页 |
| 3.2.1 样品准备 | 第27-29页 |
| 3.2.2 激光加工 | 第29-31页 |
| 3.3 实验结果和讨论 | 第31-33页 |
| 3.3.1 间隔层厚度和曝光剂量对小孔尺寸的影响 | 第31-33页 |
| 3.3.2 优化间隔层厚度和曝光剂量 | 第33页 |
| 3.4 优化参数实现超 35nm光刻分辨率 | 第33-34页 |
| 3.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 4 结论 | 第35-36页 |
| 4.1 结论 | 第35页 |
| 4.2 展望 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-41页 |
| 致谢 | 第41-42页 |
| 在校期间的科研成果 | 第42页 |
