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Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米线结构稳定性与电子性质的第一性原理研究

致谢第5-6页
摘要第6-8页
Abstract第8-10页
1 绪论第17-26页
    1.1 半导体纳米材料的基本特性第18-19页
    1.2 Ⅲ-Ⅴ族半导体材料第19-24页
    1.3 理论计算在Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米线研究中的重要性第24-25页
    1.4 本论文工作简介第25-26页
2 第一性原理的理论计算方法第26-41页
    2.1 第一性原理在计算材料学中的地位第26页
    2.2 第一性原理计算简介第26-27页
    2.3 密度泛函理论第27-36页
        2.3.1 玻恩 -奥本海默近似第28-29页
        2.3.2 Hartree-Fock自洽场方法第29-31页
        2.3.3 Hohenberg-Kohn定理第31-32页
        2.3.4 Kohn-Sham方程第32页
        2.3.5 交换关联泛函第32-33页
        2.3.6 基于密度泛函理论的第一性原理计算方法第33-36页
    2.4 密度泛函理论的自洽计算过程第36-37页
    2.5 计算软件介绍第37-41页
        2.5.1 Materials Studio软件简介第37-38页
        2.5.2 VASP计算软件简介第38-39页
        2.5.3 Vesta计算软件简介第39-41页
3 Ⅲ-Ⅴ族半导体的体相性质第41-52页
    3.1 体相性质对于研究纳米线性质的意义第41页
    3.2 计算方法第41-42页
    3.3 不同晶相的Ⅲ-Ⅴ族半导体结构变化第42-44页
    3.4 Ⅲ-Ⅴ族块体的电子性质第44-50页
        3.4.1 磷化镓块体的电子性质第45-47页
        3.4.2 磷化铟和砷化镓块体的电子性质第47-50页
    3.5 本章小结第50-52页
4 晶面效应对磷化铟纳米线结构稳定性和电子性质的影响第52-63页
    4.1 引言第52-53页
    4.2 计算方法和模型第53-54页
    4.3 结果与讨论第54-61页
    4.4 本章小结第61-63页
5 晶面和晶相效应对磷化镓纳米线结构稳定性和电子性质的影响第63-75页
    5.1 引言第63-64页
    5.2 计算方法和模型第64-66页
    5.3 结果和讨论第66-74页
    5.4 本章小结第74-75页
6 砷化镓/磷化镓核壳结构的电子性质第75-88页
    6.1 引言第75-76页
    6.2 计算模型和方法第76-78页
    6.3 结果和讨论第78-86页
        6.3.1 壳层钝化作用对纳米线电子结构的影响第78-79页
        6.3.2 组分比和尺寸效应对核壳结构纳米线电子性质的影响第79-83页
        6.3.3 核壳结构纳米线的载流子空间局域化特征第83-86页
    6.4 本章小结第86-88页
7 总结与展望第88-91页
    7.1 论文总结第88-89页
    7.2 后续展望第89-91页
参考文献第91-101页
作者简历第101页

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