基于扩散限制刻蚀模型的等离子体刻蚀模拟研究

摘要	第1-5页
Abstract	第5-8页
第1章 绪论	第8-18页
·课题背景	第8页
·常用刻蚀技术	第8-15页
·湿法刻蚀	第9-10页
·干法刻蚀（等离子体刻蚀技术）	第10-11页
·等离子体刻蚀机理	第11-12页
·等离子体刻蚀过程中的物理化学现象	第12-15页
·刻蚀质量的评价	第15-17页
·本论文主要研究内容	第17-18页
第2章 等离子体刻蚀常用模型与算法	第18-27页
·等离子刻蚀的物理模型	第19-20页
·流体模型	第19页
·动力学模型	第19页
·粒子模型	第19页
·混合模型	第19-20页
·刻蚀速率模型	第20-21页
·线性刻蚀模型	第20-21页
·离子增强刻蚀的饱和吸附模型	第21页
·刻蚀表面演化算法	第21-24页
·元胞模型	第22页
·线算法	第22-23页
·射线算法	第23-24页
·其它刻蚀模拟过程	第24-26页
·本章小结	第26-27页
第3章 扩散限制刻蚀模型	第27-34页
·扩散限制腐蚀模型	第27-29页
·扩散限制凝聚模型	第27-28页
·扩散限制腐蚀模型	第28-29页
·改进的扩散限制腐蚀模型	第29页
·扩散限制刻蚀模型	第29-34页
·模型的建立	第29-31页
·模型的物理意义	第31页
·模型的编程实现	第31-33页
·本章小结	第33-34页
第4章 模拟结果及分析	第34-44页
·扩散限制腐蚀模型模拟结果	第34-35页
·扩散限制刻蚀模型模拟结果	第35-36页
·不同调制几率下的刻蚀模拟	第36-39页
·周期性掩模下的刻蚀模拟	第39-43页
·本章小结	第43-44页
结论	第44-45页
参考文献	第45-49页
攻读学位期间发表的学术论文	第49-51页
致谢	第51页