| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 1 ZnO的性质和用途 | 第9-11页 |
| ·ZnO的性质 | 第9页 |
| ·ZnO的用途 | 第9-11页 |
| 2 ZnO的制备方法及其表征手段 | 第11-24页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第11-15页 |
| ·脉冲激光沉积方法的原理及其特点 | 第11-14页 |
| ·PLD法制备ZnO薄膜 | 第14-15页 |
| ·ZnO的其它制备方法简介 | 第15-16页 |
| ·电子束蒸发(Electron-beam evaporation) | 第15页 |
| ·磁控溅射(magnetron sputtering) | 第15-16页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD) | 第16页 |
| ·溶胶凝胶法(Sol-Gel) | 第16页 |
| ·ZnO薄膜的表征方法 | 第16-24页 |
| ·X射线衍射法 | 第16-20页 |
| ·反射式高能电子衍射(RHEED) | 第20-21页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| ·扫描探针显微镜 | 第22-23页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第23-24页 |
| 3 PLD法制备ZnO薄膜及其表征 | 第24-39页 |
| ·试验设备及试验步骤 | 第24-27页 |
| ·PLD法制备ZnO薄膜工艺流程 | 第27页 |
| ·使用蓝宝石衬底研究衬底温度对PLD法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响 | 第27-33页 |
| ·实验过程 | 第27-28页 |
| ·实验结果与讨论 | 第28-33页 |
| ·在空气中退火温度对PLD法在Si(111)衬底上制备的ZnO薄膜的结构和光学特性的影响 | 第33-39页 |
| ·试验过程 | 第33-35页 |
| ·结果和讨论 | 第35-39页 |
| 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-43页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第43-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
