中文摘要 | 第1-9页 |
英文摘要 | 第9-11页 |
第一部分综述 微流控芯片及化学发光免疫分析法的研究进展 | 第11-29页 |
·引言 | 第11-12页 |
·微流控芯片的材料 | 第12-15页 |
·硅材料 | 第12-13页 |
·玻璃和石英 | 第13-14页 |
·高分子聚合物 | 第14-15页 |
·微流控芯片的制作技术 | 第15-19页 |
·光刻和蚀刻技术 | 第15-16页 |
·激光烧蚀法 | 第16-17页 |
·热压法 | 第17页 |
·LIGA技术 | 第17页 |
·模塑法 | 第17-19页 |
·微流控芯片的键合 | 第19-21页 |
·阳极键合 | 第20页 |
·热键合 | 第20页 |
·低温键合 | 第20-21页 |
·微流控芯片的检测系统 | 第21-26页 |
·荧光检测系统 | 第21-22页 |
·电化学检测系统 | 第22页 |
·质谱检测系统 | 第22-23页 |
·化学发光检测系统 | 第23-26页 |
·以鲁米诺及其衍生物为发光剂的发光体系 | 第24-25页 |
·以磷酸化金刚烷环氧化物为发光试剂的增强化学发光体系 | 第25-26页 |
·磁性微粒技术 | 第26-27页 |
·以化学发光为检测手段的微流控芯片研究进展 | 第27-28页 |
·微流控芯片发展展望 | 第28-29页 |
第二部分 研究报告 | 第29-59页 |
实验一 化学发光测定过氧化苯甲酰的研究 | 第29-32页 |
1 材料和方法 | 第29-30页 |
·仪器和试剂 | 第29页 |
·实验方法 | 第29-30页 |
·标准曲线的制作 | 第29页 |
·BPO样品的预处理 | 第29页 |
·BPO测定方法 | 第29-30页 |
2 结果和讨论 | 第30-31页 |
·面粉样品测定及回收率 | 第30-31页 |
·毛细管的选择 | 第31页 |
·鲁米诺的选择 | 第31页 |
·鲁米诺浓度的优化 | 第31页 |
3 结论 | 第31-32页 |
实验二 微流控芯片的制作及过氧化苯甲酰测定的研究 | 第32-47页 |
1 引言 | 第32-33页 |
2 材料和方法 | 第33-36页 |
·仪器和试剂 | 第33-34页 |
·实验方法 | 第34-36页 |
·PDMS芯片的制作 | 第34-35页 |
·BPO的检测方法 | 第35-36页 |
·BPO标准曲线的制作 | 第36页 |
·BPO样品预处理及测定 | 第36页 |
3 结果和讨论 | 第36-47页 |
·PDMS微流控芯片的制作 | 第36-40页 |
·BPO测定及重现性 | 第40-47页 |
实验三盐酸克仑特罗检测的研究 | 第47-59页 |
1 引言 | 第47页 |
2 材料和方法 | 第47-51页 |
·试剂和仪器 | 第47-48页 |
·实验方法 | 第48-51页 |
·金磁微粒的制备 | 第48-49页 |
·OVA-CLB的偶联 | 第49页 |
·金磁微粒-OVA-CLB复合物的制备 | 第49-50页 |
·CLB标准曲线制作 | 第50-51页 |
·CLB样品测定 | 第51页 |
3 结果与讨论 | 第51-59页 |
·Fe_3O_4颗粒表面的巯基硅烷化条件选择 | 第51-52页 |
·20nm胶体金制备终点的判断 | 第52页 |
·时间对金磁微粒制备的影响 | 第52-53页 |
·金磁微粒包被OVA-CLB缓冲液的选择 | 第53-54页 |
·磁场对实验结果的影响 | 第54页 |
·时间对结果的影响 | 第54-55页 |
·pH对发光的影响 | 第55页 |
·温度对结果的影响 | 第55-56页 |
·发光试剂浓度的选择 | 第56页 |
·线性范围与重现性 | 第56页 |
·实际样品测定 | 第56-57页 |
·回收率实验 | 第57-58页 |
·交叉反应实验 | 第58-59页 |
全文总结 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-66页 |
致谢 | 第66页 |