| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·离子注入技术的发展 | 第10-12页 |
| ·离子注入机控制系统的发展 | 第12-13页 |
| ·论文研究的内容、目的和意义 | 第13-14页 |
| ·本章小结 | 第14-15页 |
| 第二章 离子注入机基础 | 第15-21页 |
| ·离子注入机的结构和类型 | 第15-18页 |
| ·离子注入机的性能要求 | 第18-20页 |
| ·离子注入机的控制系统要求 | 第20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 100nm大角度离子注入机控制系统总体设计 | 第21-27页 |
| ·100nm离子注入机应用需求 | 第21-22页 |
| ·离子注入机控制系统功能要求 | 第22-23页 |
| ·控制系统方案设计 | 第23-26页 |
| ·控制系统总体设计思路 | 第23-24页 |
| ·控制系统总体设计 | 第24-26页 |
| ·主控制系统与子控制系统 | 第26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第四章 100nm大角度离子注入机主控制系统设计 | 第27-42页 |
| ·主控系统方案 | 第27-29页 |
| ·主控系统框架及组成 | 第29-33页 |
| ·系统构成 | 第29-30页 |
| ·系统I/O结构 | 第30页 |
| ·双端口巡检控制器 | 第30-33页 |
| ·主控计算机与子控制器的通讯设计 | 第33页 |
| ·控制系统软件设计 | 第33-41页 |
| ·软件设计 | 第33-36页 |
| ·控制系统软件实施 | 第36-37页 |
| ·控制软件组织结构及全自动功能流程 | 第37-40页 |
| ·建立智能控制平台 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第五章 100nm大角度离子注入机子控制系统设计 | 第42-55页 |
| ·子控制器的设计 | 第42-44页 |
| ·信号接口设计 | 第42-43页 |
| ·控制信号的传输 | 第43页 |
| ·抗干扰设计 | 第43-44页 |
| ·I/O与电源控制 | 第44-45页 |
| ·I/O控制器 | 第44-45页 |
| ·电源控制器 | 第45页 |
| ·电机控制 | 第45-48页 |
| ·均匀性检测和控制 | 第48-54页 |
| ·均匀性检测原理 | 第48-50页 |
| ·均匀性控制器设计 | 第50-51页 |
| ·均匀性检测和控制 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 100nm大角度离子注入机控制系统测试 | 第55-60页 |
| ·系统的实现 | 第55页 |
| ·生产线上工艺验证 | 第55-58页 |
| ·100nm工艺CMOS器件制作工艺验证 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结束语 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第65-66页 |
| 附录A 整机控制系统结构示意图 | 第66-68页 |
| 附录B 晶片传输流程图 | 第68-69页 |