| 摘要 | 第3-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第14-42页 |
| 1.1 太阳能发电技术概述 | 第17-19页 |
| 1.2 晶体硅太阳电池概述 | 第19-21页 |
| 1.3 n型高效晶体硅太阳电池研究进展 | 第21-32页 |
| 1.3.1 PERT太阳电池技术 | 第21-24页 |
| 1.3.2 HIT太阳电池技术 | 第24-27页 |
| 1.3.3 IBC太阳电池技术 | 第27-31页 |
| 1.3.4 HBC太阳电池技术 | 第31-32页 |
| 1.4 本论文的主要研究内容及结构框架 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-42页 |
| 第二章 计算原理及测试方法 | 第42-58页 |
| 2.1 计算原理 | 第42-48页 |
| 2.1.1 PC1D计算原理 | 第42-45页 |
| 2.1.2 EDNA2 计算原理 | 第45-46页 |
| 2.1.3 Wafer Ray Tracer计算原理 | 第46-48页 |
| 2.2 主要测试方法 | 第48-55页 |
| 2.2.1 掺杂浓度测试仪 | 第48-50页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第50-51页 |
| 2.2.3 少子寿命测试仪 | 第51-54页 |
| 2.2.4 量子效率测试仪 | 第54-55页 |
| 2.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第三章 晶体硅太阳电池制备的主要工艺 | 第58-76页 |
| 3.1 前清洗工艺 | 第58-62页 |
| 3.1.1 硅片去损伤层,并制作绒面 | 第58-60页 |
| 3.1.2 单晶硅片的绒面制作 | 第60-61页 |
| 3.1.3 多晶硅片的绒面制作 | 第61-62页 |
| 3.2 掺杂工艺 | 第62-65页 |
| 3.2.1 扩散方法与工艺 | 第63-65页 |
| 3.3 钝化减反射膜工艺 | 第65-70页 |
| 3.3.1 减反射膜的原理 | 第65-67页 |
| 3.3.2 减反射膜的材料及制备方法 | 第67-69页 |
| 3.3.3 PECVD法制作减反射膜的设备 | 第69-70页 |
| 3.4 金属化电极制备工艺 | 第70-72页 |
| 3.4.1 背表面电场的制作 | 第71-72页 |
| 3.4.2 电极的制作 | 第72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 第四章 薄层Al_2O_3钝化硼发射极n型双面晶体硅太阳电池的制备研究 | 第76-98页 |
| 4.1 引言 | 第76-77页 |
| 4.2 实验和模拟 | 第77-81页 |
| 4.2.1 n型双面太阳电池的制造 | 第77-79页 |
| 4.2.2 EDNA2和PC1D软件模拟 | 第79-80页 |
| 4.2.3 表征 | 第80-81页 |
| 4.3 结果和讨论 | 第81-92页 |
| 4.3.1 太阳电池前驱体的特征 | 第81-83页 |
| 4.3.2 p+发射极表面饱和电流密度的模拟 | 第83-85页 |
| 4.3.3 厚度为2 nm和4 nm Al2O3双面电池的性能分析 | 第85-88页 |
| 4.3.4 丝网印刷技术对太阳电池的影响 | 第88-90页 |
| 4.3.5 用PC1D模拟软件优化n型双面晶硅太阳电池 | 第90-91页 |
| 4.3.6 n型双面晶硅太阳电池的量化生产的可行性 | 第91-92页 |
| 4.4 本章小结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-98页 |
| 第五章 激光掺杂SE+TOPCon型n-PERT双面晶体硅太阳电池的制备与研究 | 第98-114页 |
| 5.1 引言 | 第98-100页 |
| 5.2 实验和表征 | 第100-102页 |
| 5.2.1 n型双面太阳电池的制造 | 第100-101页 |
| 5.2.2 表征 | 第101-102页 |
| 5.3 结果和讨论 | 第102-109页 |
| 5.3.1 激光掺杂的太阳电池的特征 | 第102-105页 |
| 5.3.2 TOPCon结构对n型晶硅太阳电池性能的影响 | 第105-108页 |
| 5.3.3 激光SE+TOPCon复合结构对n型晶硅太阳电池性能的影响 | 第108-109页 |
| 5.4 本章小结 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-114页 |
| 第六章 基于工业化的背结背接触晶硅太阳电池的研发 | 第114-138页 |
| 6.1 引言 | 第114-115页 |
| 6.2 实验 | 第115-118页 |
| 6.2.1 BJBC晶硅太阳电池的制造 | 第115-117页 |
| 6.2.2 表征方法 | 第117-118页 |
| 6.3 结果和讨论 | 第118-131页 |
| 6.3.1 前表面和背表面的光学特性 | 第118-120页 |
| 6.3.2 前表面和背表面掺杂区域的优化 | 第120-123页 |
| 6.3.3 激光图形化 | 第123-125页 |
| 6.3.4 丝网印刷金属化的优化 | 第125-128页 |
| 6.3.5 BJBC硅太阳电池的性能分析 | 第128-131页 |
| 6.4 本章小结 | 第131-132页 |
| 参考文献 | 第132-138页 |
| 第七章 总结与展望 | 第138-142页 |
| 7.1 总结 | 第138-140页 |
| 7.2 创新点 | 第140-141页 |
| 7.3 展望 | 第141-142页 |
| 攻读学位论文期间发表论文及其他 | 第142-144页 |
| 致谢 | 第144-147页 |
