氢化非晶硅薄膜微观结构特征形成的分子动力学模拟研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 HIT电池研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 氢化非晶硅薄膜 | 第13-18页 |
| 1.3.1 氢化非晶硅薄膜简介 | 第13页 |
| 1.3.2 氢化非晶硅薄膜沉积制备 | 第13-16页 |
| 1.3.3 氢化非晶硅薄膜生长研究 | 第16-18页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 分子动力学模拟方法和结构分析方法 | 第19-27页 |
| 2.1 分子动力学模拟方法 | 第19-22页 |
| 2.1.1 基本原理 | 第19页 |
| 2.1.2 系综 | 第19-20页 |
| 2.1.3 控温方法 | 第20页 |
| 2.1.4 势函数 | 第20-22页 |
| 2.2 结构分析方法 | 第22-27页 |
| 第3章 沉积参数对薄膜微观结构特征的影响研究 | 第27-56页 |
| 3.1 前言 | 第27-28页 |
| 3.2 氢化非晶硅薄膜沉积生长模型 | 第28-30页 |
| 3.3 衬底取向的影响 | 第30-35页 |
| 3.4 入射角的影响 | 第35-46页 |
| 3.5 沉积基团的影响 | 第46-54页 |
| 3.6 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 后处理对薄膜微观结构特征的影响研究 | 第56-75页 |
| 4.1 前言 | 第56-57页 |
| 4.2 氢化非晶硅薄膜后处理模型 | 第57页 |
| 4.3 退火处理的影响 | 第57-68页 |
| 4.4 氢处理的影响 | 第68-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-75页 |
| 第5章 结论 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-89页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第89页 |
