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多场耦合下倒装芯片封装焊点电迁移可靠性研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第一章 绪论第10-21页
    1.1 集成电路封装技术第10-11页
    1.2 倒装芯片封装第11-14页
        1.2.1 倒装芯片封装技术的介绍第11-14页
        1.2.2 倒装芯片凸点中典型的焊料合金第14页
    1.3 倒装芯片封装可靠性第14-19页
        1.3.1 倒装芯片封装失效分类和失效机制第14-16页
        1.3.2 倒装芯片封装可靠性在高电流密度下的挑战第16-17页
        1.3.3 国内外电迁移研究现状第17-19页
    1.4 本课题研究的目的和意义第19页
    1.5 本文的主要研究内容第19-21页
第二章 电迁移理论分析第21-31页
    2.1 倒装芯片互连结构中的电迁移第21-22页
    2.2 电迁移机制第22-26页
    2.3 背流效应第26-27页
    2.4 电迁移寿命测试第27-30页
    2.5 有限元法第30页
    2.6 本章小结第30-31页
第三章 FCBGA封装在多物理场耦合下仿真分析第31-52页
    3.1 FCBGA封装介绍第31页
    3.2 ANSYS多物理场耦合分析理论第31-32页
        3.2.1 直接耦合分析第31-32页
        3.2.2 间接耦合分析第32页
    3.3 FCBGA多物理场耦合分析模型第32-38页
        3.3.2 FCBGA封装的实体模型建模和有限元网格划分第35-37页
        3.3.3 FCBGA封装在多物理场耦合下的边界条件第37-38页
    3.4 FCBGA封装多物理场耦合计算及结果分析第38-51页
        3.4.1 FCBGA封装在热-电耦合下的计算结果及分析第38-46页
        3.4.2 FCBGA封装热-结构耦合结果及分析第46-51页
    3.5 本章小结第51-52页
第四章 互连凸点结构中各参数对电迁移机制的影响第52-71页
    4.1 电流强度对电迁移机制的影响第52-54页
    4.2 互连结构尺寸对电迁移的影响第54-70页
        4.2.1 Al线尺寸对电迁移机制的影响第54-58页
        4.2.2 UBM厚度对电迁移机制的影响第58-64页
        4.2.3 钝化层开口尺寸对电迁移机制的影响第64-67页
        4.2.4 互连结构缩小对电迁移机制的影响第67-70页
    4.3 本章小结第70-71页
第五章 结论与展望第71-73页
    5.1 结论第71-72页
    5.2 展望第72-73页
参考文献第73-77页
英文缩写词表第77-78页
作者在攻读硕士学位期间公开发表的论文第78-79页
    A:在国内刊物上发表的论文第78页
    B:在国际学术会议上发表的论文第78-79页
致谢第79页

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