扫描电子束曝光机背散射电子检测与对准技术的研究
| 第一章 引言 | 第1-16页 |
| ·电子束曝光技术 | 第7-12页 |
| ·曝光技术 | 第7-8页 |
| ·电子束曝光技术的发展历史和现状 | 第8页 |
| ·电子束曝光系统的分类 | 第8-12页 |
| ·扫描电子束曝光技术 | 第12页 |
| ·扫描电子束曝光技术的研究现状 | 第12-16页 |
| ·日本JEOL 公司 | 第13-14页 |
| ·德国 Lecia-Cambridge 公司 | 第14-16页 |
| 第二章 课题的主要任务 | 第16-17页 |
| ·课题背景 | 第16页 |
| ·课题任务 | 第16-17页 |
| 第三章 背散射电子信号检测 | 第17-26页 |
| ·背散射电子特性 | 第17-19页 |
| ·背散射电子信号与二次电子信号的比较 | 第17页 |
| ·背散射电子信号的特性 | 第17-19页 |
| ·背散射电子检测电路的组成 | 第19-23页 |
| ·背散射电子探测器 | 第19-20页 |
| ·模拟信号处理电路 | 第20-23页 |
| ·PCB 板设计中的防噪声措施 | 第23-24页 |
| ·针对微小电压放大采取的抗干扰措施 | 第23-24页 |
| ·大平面接地方式的PCB 板设计 | 第24页 |
| ·在装配工艺上的措施 | 第24页 |
| ·关于电位器的注意事项 | 第24页 |
| ·实验结果及结论 | 第24-26页 |
| 第四章 检测对准技术 | 第26-36页 |
| ·检测对准技术 | 第26-34页 |
| ·检测对准技术的作用 | 第26-27页 |
| ·影响电子束曝光系统精度的因素 | 第27-29页 |
| ·电子束曝光设备对准技术介绍 | 第29-34页 |
| ·扫描电子束曝光机检测对准校 | 第34-36页 |
| ·掩模版制作过程中的对准 | 第34-35页 |
| ·电子束直接曝光的对准 | 第35-36页 |
| 第五章扫描场畸变校正 | 第36-57页 |
| ·线性畸变校正及软件设计 | 第36-50页 |
| ·线性畸变校正原理 | 第36-41页 |
| ·图形发生器 | 第41-43页 |
| ·校正软件流程图 | 第43-47页 |
| ·场的拼接实验 | 第47-50页 |
| ·非线性畸变的类型及校正方法 | 第50-57页 |
| ·非线性畸变的类型 | 第50-51页 |
| ·非线性畸变的校正方法 | 第51-57页 |
| 第六章结论 | 第57-59页 |
| ·课题的特点 | 第57页 |
| ·课题的进展 | 第57页 |
| ·课题的深入研究 | 第57-59页 |
| 附录一 校正软件部分源程序 | 第59-63页 |
| 附录二 校正电PCB 原理图 | 第63-64页 |
| 附录三 校正电路PCB 图 | 第64-65页 |
| 附录四 校正电路PCB 板 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 发表文章 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
