| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-33页 |
| ·ZnO 材料的基本性质及应用 | 第12-15页 |
| ·ZnO 材料的研究热点及进展 | 第15-29页 |
| ·本征ZnO 中本征施主缺陷的研究进展 | 第16-22页 |
| ·p 型ZnO 薄膜材料的研究进展 | 第22-26页 |
| ·氧化锌器件的研究进展 | 第26-29页 |
| ·当前ZnO 薄膜研究中存在的问题和发展趋势 | 第29-31页 |
| ·论文的选题依据和主要研究内容 | 第31-33页 |
| 第2章 ZnO 基薄膜材料的制备技术与表征手段 | 第33-47页 |
| ·ZnO 基薄膜的制备技术 | 第33-37页 |
| ·等离子体辅助分子束外延技术 | 第33-35页 |
| ·射频磁控溅射技术 | 第35-37页 |
| ·ZnO 薄膜常用表征测试手段 | 第37-46页 |
| ·薄膜电学性质的表征 | 第37-38页 |
| ·薄膜光学性质的表征 | 第38-42页 |
| ·薄膜结构、质量及组分表征 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 氢对 ZnO 薄膜光学以及电学特性的影响 | 第47-61页 |
| ·ZnO 及MgZnO 合金薄膜的制备及热处理过程 | 第47-49页 |
| ·ZnO 以及MgZnO 薄膜制备工艺 | 第47-48页 |
| ·ZnO 以及MgZnO 薄膜热处理工艺 | 第48-49页 |
| ·氢气和水汽处理对ZnO 薄膜结构特性的影响 | 第49-53页 |
| ·氢气和水汽处理对ZnO 薄膜光学特性的影响 | 第53-56页 |
| ·氢气和水汽处理对ZnO 薄膜电学特性的影响 | 第56-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 N 掺杂p 型 ZnO 薄膜的掺杂特性及光电特性的表征 | 第61-77页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的制备 | 第62页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的表征 | 第62-69页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的结构特性 | 第62-63页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的光电子能谱研究 | 第63-64页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的Raman 光谱研究 | 第64-66页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的电学特性研究 | 第66-67页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的光学特性研究 | 第67-68页 |
| ·N 掺杂ZnO 薄膜的生长动力学分析 | 第68-69页 |
| ·衬底对N 在ZnO 薄膜中的掺杂效率的影响 | 第69-75页 |
| ·ZnO:N 薄膜的Raman 光谱比较分析 | 第69-70页 |
| ·ZnO:N 薄膜的电学特性比较研究 | 第70-72页 |
| ·ZnO:N 薄膜与衬底晶格失配研究 | 第72-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第5章 Delta 掺杂制备p 型 MgZnO 薄膜及相关器件的制作 | 第77-91页 |
| ·Delta 掺杂制备MgZnO:N 薄膜的制备 | 第78-79页 |
| ·Delta 掺杂MgZnO:N 薄膜的表征 | 第79-83页 |
| ·Delta 掺杂MgZnO:N 薄膜的X 射线衍射谱分析 | 第79-81页 |
| ·Delta 掺杂MgZnO:N 薄膜的光致发光谱分析 | 第81-82页 |
| ·Delta 掺杂MgZnO:N 薄膜的电学特性分析 | 第82-83页 |
| ·Li、N 共掺p 型MgZnO 薄膜的制备及表征 | 第83-85页 |
| ·p 型MgZnO：（Li,N）薄膜的pn 结器件的制作及性能表征 | 第85-89页 |
| ·p 型MgZnO：（Li,N）薄膜的pn 结器件的制作 | 第85-86页 |
| ·p 型MgZnO：（Li,N）薄膜的pn 结器件性能表征 | 第86-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 第6章 结论与展望 | 第91-93页 |
| ·总结 | 第91页 |
| ·展望 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-103页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第103-105页 |
| 指导教师及作者简介 | 第105-107页 |
| 致谢 | 第107页 |
