| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 引言 | 第12-32页 |
| ·ZnO 材料的基本性质 | 第14-16页 |
| ·ZnO 基薄膜材料及器件的研究现状及其进展 | 第16-30页 |
| ·高质量ZnO 薄膜的研究进展 | 第16-18页 |
| ·p 型掺杂ZnO 材料的的研究进展 | 第18-25页 |
| ·ZnO 基光电子器件的研究进展 | 第25-30页 |
| ·论文的选题依据和研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备技术与性能表征 | 第32-52页 |
| ·等离子体辅助分子束外延技术制备ZnO 薄膜 | 第32-37页 |
| ·ZnO 薄膜性能表征手段 | 第37-52页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第37-39页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第39-41页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第41-43页 |
| ·反射式高能电子衍射 | 第43-44页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第44-46页 |
| ·霍尔测试(Hall measurements) | 第46-47页 |
| ·光致发光谱(PL) | 第47-48页 |
| ·量子扰动超导探测器(SQUID) | 第48页 |
| ·二次离子质谱(SIMS) | 第48-49页 |
| ·正电子湮灭光谱(PAS) | 第49-52页 |
| 第三章 化学计量比对本征 ZnO 的结构以及光电特性的影响 | 第52-60页 |
| ·背景介绍 | 第52-53页 |
| ·ZnO 薄膜材料的制备和表征方法 | 第53-54页 |
| ·不同化学计量比对薄膜质量的影响 | 第54-59页 |
| ·不同锌氧比例对薄膜结构的影响 | 第54-56页 |
| ·不同锌氧比例对电学性质的影响 | 第56-57页 |
| ·不同锌氧比例对光学性质的影响 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 锂氮共掺杂p 型 ZnO 薄膜的制备及掺杂机制 | 第60-76页 |
| ·背景介绍 | 第60-62页 |
| ·锂单掺及锂氮共掺杂ZnO 薄膜材料的制备和表征方法 | 第62-63页 |
| ·锂单掺ZnO 薄膜的性质分析 | 第63-66页 |
| ·锂单掺ZnO 的电学性质 | 第63-64页 |
| ·锂单掺ZnO 的晶体结构 | 第64-65页 |
| ·锂单掺ZnO 的光学性质 | 第65-66页 |
| ·锂氮共掺ZnO 薄膜的p 型形成机制的研究 | 第66-75页 |
| ·锂氮共掺ZnO 薄膜的结构性质 | 第67-68页 |
| ·锂氮共掺ZnO 薄膜的电学性质 | 第68-69页 |
| ·锂氮共掺ZnO 薄膜的成分与化学状态分析 | 第69-72页 |
| ·锂氮共掺ZnO 薄膜的掺杂机制的理论分析 | 第72页 |
| ·锂氮共掺ZnO 薄膜的光学性质 | 第72-73页 |
| ·p 型锂氮共掺 ZnO 薄膜的稳定性研究 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第五章 锂氮共掺杂 ZnO 薄膜铁磁特性的研究 | 第76-82页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·ZnO 薄膜的制备和表征手段 | 第77-78页 |
| ·ZnO 薄膜的磁性来源分析 | 第78-81页 |
| ·ZnO 薄膜的磁性分析 | 第78页 |
| ·ZnO 薄膜的光学性质分析 | 第78-81页 |
| ·本章小结 | 第81-82页 |
| 第六章 结论与展望 | 第82-84页 |
| ·结论 | 第82-83页 |
| ·展望 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-94页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第94-96页 |
| 指导教师及作者简介 | 第96-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
