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三维高密度集成电路中锥形硅通孔电特性研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第8-17页
    1.1 研究背景第8-10页
    1.2 研究现状第10-15页
        1.2.1 硅通孔及其工艺技术第10-13页
        1.2.2 硅通孔的等效模型研究第13-15页
    1.3 本文主要工作第15-17页
第二章 硅通孔电路参数提取理论基础第17-35页
    2.1 引言第17-19页
    2.2 硅通孔对电路参数提取理论第19-29页
        2.2.1 硅通孔的电流连续性第19-22页
        2.2.2 硅通孔的 MOS 结构第22-26页
        2.2.3 硅通孔对的传输线模型与 S 参数第26-29页
    2.3 部分等效元电路法(PEEC)第29-34页
    2.4 本章小结第34-35页
第三章 硅通孔的等效电路模型第35-56页
    3.1 引言第35页
    3.2 圆柱硅通孔对 RLGC 模型第35-41页
        3.2.1 圆柱硅通孔对 RLGC 模型求解第36-38页
        3.2.2 理论值与仿真验证第38-41页
    3.3 锥形硅通孔对的 RLGC 模型第41-52页
        3.3.1 锥形硅通孔对 RLGC 模型求解第42-47页
        3.3.2 理论验证与 S 参数仿真第47-52页
    3.4 锥形硅通孔阵列的 RLGC 模型第52-55页
    3.5 本章小结第55-56页
第四章 硅通孔的电性能分析第56-63页
    4.1 引言第56页
    4.2 包含硅通孔的驱动电路模型第56-59页
    4.3 数字信号下电性能分析第59-62页
    4.4 本章小结第62-63页
第五章 总结和展望第63-65页
参考文献第65-70页
致谢第70-71页
攻读学位期间取得的科研成果第71-74页
附件第74页

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