飞秒激光湿法刻蚀硅基微纳结构
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 MEMS简介 | 第10-11页 |
| 1.2 MEMS制备技术 | 第11-13页 |
| 1.3 课题研究背景 | 第13-14页 |
| 1.4 本文主要内容 | 第14-15页 |
| 第二章 飞秒激光湿法刻蚀技术 | 第15-23页 |
| 2.1 飞秒激光微纳加工技术 | 第15-17页 |
| 2.1.1 飞秒激光技术的发展 | 第15-16页 |
| 2.1.2 飞秒激光加工技术的特点 | 第16-17页 |
| 2.2 湿法刻蚀技术 | 第17-22页 |
| 2.2.1 干法刻蚀 | 第17-18页 |
| 2.2.2 湿法刻蚀 | 第18-22页 |
| 2.3 飞秒激光湿法刻蚀技术 | 第22-23页 |
| 第三章 飞秒激光湿法刻蚀技术探究 | 第23-31页 |
| 3.1 飞秒激光加工系统的搭建 | 第23-24页 |
| 3.2 飞秒激光烧蚀硅基结构 | 第24-26页 |
| 3.3 湿法刻蚀效果探究 | 第26-31页 |
| 3.3.1 HF刻蚀效果 | 第26-27页 |
| 3.3.2 KOH刻蚀效果 | 第27-29页 |
| 3.3.3 HF和KOH刻蚀效果对比 | 第29-31页 |
| 第四章 飞秒激光湿法刻蚀制备硅基微纳结构 | 第31-47页 |
| 4.1 飞秒激光湿法刻蚀技术参数探究 | 第31-39页 |
| 4.2 飞秒激光湿法刻蚀制备三维微纳结构 | 第39-42页 |
| 4.3 飞秒激光湿法刻蚀制备悬空结构 | 第42-47页 |
| 第五章 总结与展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 作者简介及科研情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
