| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-14页 |
| ·SPR 传感器简介 | 第11页 |
| ·SPR 传感器研究特点及趋势 | 第11-12页 |
| ·SPR 传感器的发展历程 | 第12-13页 |
| ·论文的研究内容和目标 | 第13-14页 |
| 2 SPR 传感器的基本原理 | 第14-23页 |
| ·表面等离子体的传播原理 | 第14-16页 |
| ·表面等离子体的耦合方式 | 第16-20页 |
| ·棱镜耦合 | 第17-18页 |
| ·光栅耦合 | 第18-19页 |
| ·波导耦合 | 第19页 |
| ·其他耦合方式 | 第19-20页 |
| ·表面等离子体增强型光栅耦合型 SPR 传感器的机理和优势 | 第20-21页 |
| ·SPR 作用下的金属光栅的透射特性及其影响因素 | 第21-23页 |
| 3 表面等离子增强型光栅透射基本原理及模拟与设计 | 第23-32页 |
| ·FDTD Solutions 软件简介 | 第23-25页 |
| ·模拟的流程和方法 | 第25-29页 |
| ·模拟结果讨论分析 | 第29-32页 |
| ·对模拟结果进行脚本编写 | 第29-30页 |
| ·结构设计对光栅透过性能的影响 | 第30-31页 |
| ·材料参数对光栅透过性能的影响 | 第31-32页 |
| 4 SPR 传感器制备工艺研究 | 第32-45页 |
| ·光栅元件制备工艺 | 第32-33页 |
| ·SPR 传感器制备工艺 | 第33-34页 |
| ·主要设备原理简介及实验 | 第34-45页 |
| ·磁控溅射技术 | 第34-37页 |
| ·紫外曝光技术 | 第37-41页 |
| ·干法刻蚀工艺 | 第41-43页 |
| ·PECVD 生长 SiO2薄膜工艺 | 第43-45页 |
| 5 测试实验与分析 | 第45-50页 |
| ·光谱测试仪器介绍 | 第45-46页 |
| ·光栅透射光谱测试 | 第46-47页 |
| ·SPR 传感器器测试 | 第47-50页 |
| ·SPR 传感器的不同物质的透射光谱图 | 第48页 |
| ·SPR 传感器的相同物质不同浓度的透射光谱图 | 第48-50页 |
| 6 总结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 附录：作者攻读硕士学位期间发表论文及科研情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |