磁控溅射法制备ZnO：Sb薄膜的拉曼光谱及光致发光研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 1 绪论 | 第11-26页 |
| ·概述 | 第11页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第11-16页 |
| ·ZnO 的晶体结构和能带结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO 的光学性质 | 第12-14页 |
| ·ZnO 的电学性质 | 第14页 |
| ·ZnO 的磁学性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO 的气 敏性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO 薄膜 的应用 | 第16-19页 |
| ·发光二极管 | 第16-17页 |
| ·紫外探测器 | 第17-18页 |
| ·太阳能电池 | 第18页 |
| ·气敏传感器 | 第18-19页 |
| ·Sb 掺杂 ZnO 的研究进展 | 第19-24页 |
| ·Sb 掺杂 ZnO 的电学性质 | 第19-20页 |
| ·Sb 掺杂 ZnO 的光学性质 | 第20-21页 |
| ·Sb 掺杂 ZnO 的气敏性质 | 第21-22页 |
| ·Sb 掺杂 ZnO 的第一性原理 | 第22-23页 |
| ·Sb 掺杂 ZnO 的p型掺杂 | 第23-24页 |
| ·本实验立题依据、研究内容和创新点 | 第24-26页 |
| ·立题依据 | 第24页 |
| ·研究内容 | 第24-25页 |
| ·创新点 | 第25-26页 |
| 2 ZnO ：Sb 薄膜的制备及性能表征手段 | 第26-35页 |
| ·磁控溅射简介 | 第26-28页 |
| ·射频溅射工作原理 | 第26-27页 |
| ·反应溅射工作原理 | 第27-28页 |
| ·薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·射频磁控溅射装置 | 第28-29页 |
| ·频磁控溅射操作步骤 | 第29页 |
| ·薄膜的表征手段 | 第29-34页 |
| ·台阶仪 | 第30页 |
| ·X射线衍射 | 第30-31页 |
| ·拉曼光谱 | 第31-32页 |
| ·双光束紫外/可见/近红外分光光度计23 | 第32-33页 |
| ·室温光致发光谱24 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 3 ZnO：Sb薄膜的结构研究 | 第35-45页 |
| ·ZnO：Sb薄膜制备参数的确定 | 第35-38页 |
| ·氧分压 | 第35-36页 |
| ·溅射功率 | 第36-37页 |
| ·沉积速率的确定 | 第37页 |
| ·薄膜厚度的确定 | 第37-38页 |
| ·不同掺杂浓度的薄膜制备参数 | 第38页 |
| ·ZnO：Sb薄膜表征及结构分析 | 第38-43页 |
| ·X射线衍射（XRD） | 第38-40页 |
| ·拉曼散射光谱（Raman）30 | 第40-43页 |
| ·小结 | 第43-45页 |
| 4 ZnO：Sb薄膜的光学性质研究 | 第45-53页 |
| ·ZnO晶体的点缺陷 | 第45-47页 |
| ·氧空位 | 第45-46页 |
| ·锌空位 | 第46页 |
| ·锌填隙 | 第46页 |
| ·氧填隙 | 第46-47页 |
| ·反替位缺陷 | 第47页 |
| ·ZnO：Sb薄膜光学性质分析 | 第47-49页 |
| ·ZnO：Sb薄膜透射谱（T%）37 | 第47-48页 |
| ·ZnO：Sb薄膜光学带隙 | 第48-49页 |
| ·ZnO：Sb薄膜室温光致发光谱（PL）分析 | 第49-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 5 结论与展望 | 第53-54页 |
| ·主要结论 | 第53页 |
| ·后续工作和展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 附录：作者攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
