| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-15页 |
| 1 绪论 | 第15-29页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·集成电路制造工艺流程 | 第15-17页 |
| ·光学邻近效应 | 第17-19页 |
| ·分辨率增强技术 | 第19-25页 |
| ·光学邻近修正 | 第20-21页 |
| ·移相掩模 | 第21页 |
| ·离轴照明 | 第21-23页 |
| ·次分辨率辅助图形 | 第23-24页 |
| ·各种光刻分辨率增强技术的结合使用 | 第24-25页 |
| ·集成电路的可制造性设计 | 第25-27页 |
| ·论文的研究内容、创新点及论文的安排 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 2 光学邻近修正的基本方法 | 第29-39页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·光学邻近效应的基本分类及其对应的修正方案 | 第29-33页 |
| ·一维图形的光学邻近效应 | 第29-31页 |
| ·二维图形的光学邻近效应 | 第31-33页 |
| ·基于规则的光学邻近修正算法 | 第33-35页 |
| ·基于模型的光刻邻近修正算法 | 第35-37页 |
| ·其它类型的的光学邻近修正算法 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 3 光刻成像建模方法及其实现 | 第39-62页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·光刻成像建模及点光强计算的快速算法 | 第39-48页 |
| ·光刻成像系统的基本构成 | 第39-40页 |
| ·基于部分相干理论的光刻成像模型 | 第40-41页 |
| ·基于卷积核的快速点光强计算算法 | 第41-45页 |
| ·光刻胶模型 | 第45-48页 |
| ·光刻仿真系统的实现 | 第48-58页 |
| ·软件的系统架构 | 第48-53页 |
| ·软件的使用方法简介 | 第53-56页 |
| ·脚本实例、实验结果及比较 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-62页 |
| 4 矩阵式光学邻近修正算法 | 第62-77页 |
| ·引言 | 第62-64页 |
| ·问题的表述 | 第64-65页 |
| ·泛光强分布函数 | 第64-65页 |
| ·基于泛光强分布函数表述的OPC问题 | 第65页 |
| ·问题的求解 | 第65-70页 |
| ·加速计算的若干方案 | 第70-73页 |
| ·Jacobian矩阵稀疏度控制 | 第70-71页 |
| ·区块重用 | 第71-73页 |
| ·实验结果及比较 | 第73-75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 5 基于边偏移函数的光学邻近修正算法 | 第77-97页 |
| ·引言 | 第77-78页 |
| ·边偏移量的建模方法 | 第78-82页 |
| ·利用边偏移函数为MBOPC算法提供迭代初值的方法 | 第82-84页 |
| ·基本方法 | 第82-83页 |
| ·实验结果与比较 | 第83-84页 |
| ·OPC不友好区域的检测 | 第84-85页 |
| ·适用于光刻友好版图设计的自动化光学邻近修正算法 | 第85-90页 |
| ·基于颗粒度的边切分方法 | 第87-88页 |
| ·算法的基本流程 | 第88页 |
| ·实验结果与比较 | 第88-90页 |
| ·基于边偏移函数改进的标准单元导向的光学邻近修正算法 | 第90-95页 |
| ·算法的基本流程 | 第92-93页 |
| ·实验结果与比较 | 第93-95页 |
| ·本章小结 | 第95-97页 |
| 6 结束语 | 第97-100页 |
| ·论文总结 | 第97-98页 |
| ·后续研究思路 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-109页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果及发表的论文 | 第109-111页 |
| 致谢 | 第111-113页 |