| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·金刚石结构和性质 | 第11-14页 |
| ·力学性能 | 第13页 |
| ·热学性能 | 第13页 |
| ·电学性能 | 第13-14页 |
| ·人造金刚石发展历史 | 第14-15页 |
| ·金刚石的主要用途 | 第15-16页 |
| 第二章 金刚石膜的制备方式及薄膜的表征方法 | 第16-30页 |
| ·金刚石膜的制备方法 | 第16-23页 |
| ·物理气相沉积法(PVD) | 第16页 |
| ·化学气相输运法 | 第16-18页 |
| ·等离子体化学气相沉积(PCVD)法 | 第18-21页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第21-22页 |
| ·沉积方式小结 | 第22-23页 |
| ·金刚石薄膜的表征方法 | 第23-30页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23-24页 |
| ·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第24页 |
| ·拉曼光谱 | 第24-25页 |
| ·X射线衍射光谱 | 第25-27页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子谱(XPS) | 第27页 |
| ·表面粗糙度测量及微观力学测量 | 第27-29页 |
| ·表征方式小结 | 第29-30页 |
| 第三章 金刚石膜形成机理与生长动力学的影响因素 | 第30-38页 |
| ·非平衡热力学耦合模型 | 第30-31页 |
| ·化学反应动力学模型 | 第31-33页 |
| ·基本表面及气相化学反应 | 第33-34页 |
| ·原子氢(H)的作用 | 第34-36页 |
| ·生长动力学影响因素 | 第36-38页 |
| ·反应气源 | 第36页 |
| ·工作气压 | 第36-37页 |
| ·基片的合理选用 | 第37页 |
| ·温度 | 第37页 |
| ·高速石墨刻蚀剂 | 第37页 |
| ·成膜初期前的生成物 | 第37-38页 |
| 第四章 热丝法沉积大面积金刚石薄膜实验过程与工艺 | 第38-56页 |
| ·热丝化学气相沉积原理 | 第38-39页 |
| ·实验设备的研制 | 第39-43页 |
| ·真空系统 | 第39-40页 |
| ·水冷系统的设计 | 第40页 |
| ·热丝架的设计 | 第40-41页 |
| ·供气系统的设计 | 第41页 |
| ·整机电路设计 | 第41-42页 |
| ·其他部分设计 | 第42-43页 |
| ·实验各因素的选择 | 第43-44页 |
| ·工作气体的选择 | 第43页 |
| ·灯丝选择与碳化 | 第43页 |
| ·衬底材料的选择 | 第43-44页 |
| ·衬底预处理 | 第44页 |
| ·试验过程 | 第44-47页 |
| ·预处理 | 第44-45页 |
| ·抽真空 | 第45页 |
| ·灯丝碳化 | 第45-46页 |
| ·形核 | 第46页 |
| ·生长 | 第46页 |
| ·停止 | 第46-47页 |
| ·不同工艺参数对金刚石生长的影响 | 第47-56页 |
| ·衬底研磨对金刚石膜生长的影响 | 第47页 |
| ·生长气压对金刚石膜生长的影响 | 第47-48页 |
| ·碳源对金刚石膜形成的影响 | 第48-51页 |
| ·灯丝衬底距对金刚石薄膜的影响 | 第51-52页 |
| ·金刚石薄膜掺硼研究 | 第52-55页 |
| ·金刚石薄膜的最终沉积参数 | 第55-56页 |
| 第五章 总结 | 第56-57页 |
| ·工作总结 | 第56页 |
| ·工作展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及参与的科研项目 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |