| 上海交通大学学位论文答辩决议书 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 集成电路发展的历史及趋势 | 第10-15页 |
| 1.1.1 什么是集成电路 | 第10-11页 |
| 1.1.2 集成电路的分类 | 第11-12页 |
| 1.1.3 集成电路发展的历史 | 第12-15页 |
| 1.2 课题研究背景和意义 | 第15-16页 |
| 1.3 国内外最新研究状况 | 第16-26页 |
| 1.3.1 一种Haze 形成的新模型和光罩存储时间的评估 | 第16-22页 |
| 1.3.2 先进的光掩模制造工艺 | 第22-26页 |
| 1.4 论文结构框架 | 第26-27页 |
| 第二章 Haze 现象的描述 | 第27-38页 |
| 2.1 光罩的基本特性 | 第27-30页 |
| 2.1.1 光罩的定义 | 第27-28页 |
| 2.1.2 光罩的构成 | 第28-30页 |
| 2.2 Haze 缺陷产生的原理和机制 | 第30-32页 |
| 2.2.1 Haze 的现象和在wafer 上的表现 | 第30页 |
| 2.2.2 Haze 缺陷产生的原理和机制 | 第30-31页 |
| 2.2.3 Haze 发生与曝光波长的关系 | 第31-32页 |
| 2.3 光罩制作流程中对于Haze 产生的贡献 | 第32-34页 |
| 2.3.1 光罩的生产流程介绍 | 第32-34页 |
| 2.3.2 光罩生产流程中用到的化学品 | 第34页 |
| 2.4 光罩使用过程中对Haze 的贡献 | 第34-37页 |
| 2.4.1 光罩盒的影响 | 第34-36页 |
| 2.4.2 Fab 环境的影响 | 第36-37页 |
| 2.5 小结 | 第37-38页 |
| 第三章 光罩管理系统的介绍 | 第38-46页 |
| 3.1 光罩管理系统的介绍 | 第38-40页 |
| 3.1.1 IT 支持的光罩管理系统 | 第38-39页 |
| 3.1.2 光罩盒管理系统 | 第39页 |
| 3.1.3 光罩存储系统 | 第39-40页 |
| 3.1.4 光罩检测系统 | 第40页 |
| 3.2 目前系统中对光罩产生 Haze 的影响 | 第40-44页 |
| 3.2.1 光罩盒管理系统的缺陷 | 第40-43页 |
| 3.2.2 光罩存储系统的缺陷 | 第43-44页 |
| 3.2.3 光罩检测机制的缺陷 | 第44页 |
| 3.3 优化光罩管理系统来降低 Haze 产生的发展方向 | 第44-45页 |
| 3.4 小结 | 第45-46页 |
| 第四章 光罩管理系统的优化和成果 | 第46-57页 |
| 4.1 光罩盒管理系统的优化和成果 | 第46-52页 |
| 4.1.1 建立光罩盒清洗机制 | 第46-47页 |
| 4.1.2 建立光罩盒零部件更换机制 | 第47-50页 |
| 4.1.3 建立光罩盒清洗流程 | 第50-51页 |
| 4.1.4 建立光罩盒编码和报废机制 | 第51页 |
| 4.1.5 评估新光罩盒来满足19311m 以下制程的需要 | 第51-52页 |
| 4.2 优化光罩的检测机制 | 第52-56页 |
| 4.2.1 优化光罩 IRIS 检测机制 | 第52-53页 |
| 4.2.2 优化光罩 STAR-light 检测机制 | 第53-54页 |
| 4.2.3 建立光罩 Print-down 检测机制 | 第54-56页 |
| 4.3 小结 | 第56-57页 |
| 第五章 总结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第62-64页 |
