LDMOS功率管金属电极结构及工艺设计与实现
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-16页 |
| 1.1 论文背景与意义 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 研究内容与设计指标 | 第14页 |
| 1.4 论文组织 | 第14-16页 |
| 第二章 LDMOS功率管电极结构原理设计 | 第16-21页 |
| 2.1 溅射工艺原理 | 第16-18页 |
| 2.2 电极结构工艺设计 | 第18-19页 |
| 2.3 电极结构仿真设计 | 第19页 |
| 2.4 电极结构参数 | 第19-20页 |
| 2.5 小结 | 第20-21页 |
| 第三章 LDMOS功率管电极工艺设计 | 第21-52页 |
| 3.1 欧姆接触层工艺设计 | 第21-30页 |
| 3.2 黏附层工艺设计 | 第30-32页 |
| 3.3 阻挡层工艺设计 | 第32-41页 |
| 3.4 导电层工艺设计 | 第41-43页 |
| 3.5 双层金属布线工艺设计 | 第43-51页 |
| 3.6 小结 | 第51-52页 |
| 第四章 实验结果及讨论 | 第52-63页 |
| 4.1 LDMOS功率芯片版图 | 第52页 |
| 4.2 LDMOS芯片流程框图 | 第52-53页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第53-62页 |
| 4.4 小结 | 第62-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 总结 | 第63页 |
| 5.2 展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
