| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 生物传感器概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 生物传感器 | 第8-9页 |
| 1.1.2 生物传感器研究进展 | 第9-10页 |
| 1.1.3 生物传感器待解决的问题 | 第10-11页 |
| 1.2 多孔硅生物传感器 | 第11-15页 |
| 1.2.1 多孔硅简介 | 第11-12页 |
| 1.2.2 多孔硅生物传感器 | 第12-14页 |
| 1.2.3 多孔硅生物传感器的研究进展 | 第14-15页 |
| 1.3 本文研究目标及研究内容 | 第15-16页 |
| 第2章 相关理论与实验过程 | 第16-27页 |
| 2.1 多孔硅的制备 | 第16-19页 |
| 2.1.1 水热腐蚀法 | 第16页 |
| 2.1.2 化学浸蚀法 | 第16-17页 |
| 2.1.3 电化学腐蚀法 | 第17-19页 |
| 2.2 多孔硅的形成机理 | 第19-22页 |
| 2.2.1 Beale耗尽模型 | 第20页 |
| 2.2.2 载流子扩散限制模型 | 第20-21页 |
| 2.2.3 量子限制模型 | 第21-22页 |
| 2.3 多孔硅的微观形貌结构与表面化学状态的表征技术 | 第22-23页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜(FESEM)表征手段 | 第22页 |
| 2.3.2 原子力显微镜(AFM)表征手段 | 第22页 |
| 2.3.3 傅里叶红外光谱(FTIR)表征手段 | 第22-23页 |
| 2.4 法布里-珀罗干涉光谱测试 | 第23-27页 |
| 2.4.1 基于法布里-珀罗干涉效应的光学检测原理 | 第23-25页 |
| 2.4.2 多孔硅法布里-珀罗薄膜的光学检测系统 | 第25-27页 |
| 第3章 介孔多孔硅法布里-珀罗干涉薄膜的制备及光学性能研究 | 第27-39页 |
| 3.1 介孔多孔硅法布里-珀罗干涉薄膜的制备 | 第27-29页 |
| 3.1.1 硅片的表面洁净 | 第27-28页 |
| 3.1.2 双槽电化学发法制备多孔硅 | 第28-29页 |
| 3.2 介孔多孔硅微观形貌结构 | 第29-35页 |
| 3.2.1 介孔多孔硅的微观形貌分析 | 第29-32页 |
| 3.2.2 质量分析法表征多孔硅样品的孔隙率 | 第32-35页 |
| 3.3 介孔多孔硅的法布里-珀罗干涉光谱 | 第35-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 宏孔多孔硅法布里-珀罗干涉薄膜的制备及光学性能研究 | 第39-54页 |
| 4.1 宏孔多孔硅法布里-珀罗干涉薄膜的制备 | 第39-42页 |
| 4.1.1 宏孔多孔硅的制备工艺参数 | 第39-40页 |
| 4.1.2 多孔硅的热处理工艺 | 第40-42页 |
| 4.2 宏孔多孔硅的微观形貌结构以及表面化学状态 | 第42-50页 |
| 4.2.1 宏孔多孔硅的微观形貌结构 | 第42-46页 |
| 4.2.2 宏孔多孔硅形成机理 | 第46-47页 |
| 4.2.3 宏孔多孔硅的孔隙率和腐蚀速率 | 第47-49页 |
| 4.2.4 FTIR表征宏孔多孔硅的表面化学状态 | 第49-50页 |
| 4.3 宏孔多孔硅的法布里-珀罗干涉光谱 | 第50-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 总结与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 总结 | 第54-55页 |
| 5.2 工作展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
