| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·化学机械抛光技术研究现状及发展趋势 | 第11-14页 |
| ·平坦化技术 | 第11-12页 |
| ·化学机械抛光技术 | 第12-13页 |
| ·化学机械抛光技术的现状及发展趋势 | 第13-14页 |
| ·超细CeO_2的制备方法的研究进展 | 第14-17页 |
| ·沉淀法 | 第15页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第15-16页 |
| ·水热法 | 第16页 |
| ·电化学法 | 第16页 |
| ·机械粉碎法 | 第16-17页 |
| ·粉体分级技术 | 第17-18页 |
| ·分级技术 | 第17页 |
| ·分级技术的种类 | 第17-18页 |
| ·超细粉体的分级技术 | 第18页 |
| ·化学机械抛光浆料 | 第18-22页 |
| ·SiO_2系列化学机械抛光浆料 | 第19-20页 |
| ·Al_2O_3系列化学机械抛光浆料 | 第20页 |
| ·CeO_2系列化学机械抛光浆料 | 第20-22页 |
| ·本论文的选题意义及研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 化学沉淀法制备CeO_2 | 第24-33页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·实验部分 | 第24-26页 |
| ·实验仪器 | 第24页 |
| ·实验原料 | 第24-25页 |
| ·CeO_2的制备 | 第25页 |
| ·样品的表征 | 第25-26页 |
| ·结果与讨论 | 第26-32页 |
| ·产物的物相结构分析 | 第26-28页 |
| ·CeO_2粒子形貌的分析 | 第28页 |
| ·产物的成分分析 | 第28-29页 |
| ·样品的粒度分析 | 第29-30页 |
| ·抛光性能分析 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 CeO_2粒子的超细研磨与精密分级 | 第33-40页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验部分 | 第33-34页 |
| ·CeO_2的超细研磨 | 第33页 |
| ·CeO_2的精密分级 | 第33-34页 |
| ·表征方法 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-39页 |
| ·CeO_2超细研磨后的粒度变化 | 第34-36页 |
| ·CeO_2精密分级后的粒度变化 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 超细CeO_2化学机械抛光浆料的制备及抛光效果的研究 | 第40-52页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验部分 | 第40-42页 |
| ·抛光浆料的制备 | 第40-41页 |
| ·抛光浆料的性能表征 | 第41-42页 |
| ·抛光效果的表征 | 第42页 |
| ·结果和讨论 | 第42-51页 |
| ·固含量的确定 | 第42-43页 |
| ·pH调制剂的选择 | 第43-45页 |
| ·pH值的确定 | 第45-47页 |
| ·表面活性剂的选择 | 第47-48页 |
| ·CMP抛光浆料的配制及其抛光效果分析 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 总结与展望 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第52页 |
| ·展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 附录 | 第59-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第61页 |