首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--半导体器件制造工艺及设备论文--光刻、掩膜论文

投影光刻物镜偏振像差研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第14-34页
    1.1 课题研究背景及意义第14-27页
        1.1.1 集成电路第14-18页
        1.1.2 光刻和光刻物镜第18-26页
        1.1.3 偏振像差第26-27页
    1.2 国内外研究现状第27-32页
        1.2.1 偏振像差的描述理论第27-29页
        1.2.2 偏振像差的补偿第29-31页
        1.2.3 偏振像差的测量第31-32页
    1.3 论文研究内容和结构安排第32-34页
        1.3.1 论文研究内容第32-33页
        1.3.2 论文结构安排第33-34页
第2章 偏振像差的描述理论第34-62页
    2.1 概述第34页
    2.2 偏振像差的表征第34-37页
        2.2.1 琼斯矩阵和琼斯矢量第34-35页
        2.2.2 穆勒矩阵和斯托克斯矢量第35-37页
    2.3 光学系统中的偏振光线追迹第37-44页
        2.3.1 多层薄膜理论第37-40页
        2.3.2 偏振光线追迹第40-44页
    2.4 琼斯矩阵的分解第44-55页
        2.4.1 琼斯矩阵的奇异值分解第44-51页
        2.4.2 琼斯矩阵的方向泽尼克分解第51-55页
    2.5 基于同态映照的穆勒矩阵分解第55-60页
    2.6 本章小结第60-62页
第3章 偏振像差的补偿:旋转补偿法第62-80页
    3.1 概述第62页
    3.2 CaF_2的本征双折射特性第62-65页
    3.3 CaF_2组合法补偿延迟第65-68页
    3.4 基于粒子群算法的旋转补偿法第68-77页
        3.4.1 RMSOZP第68-71页
        3.4.2 PSOrotation第71-73页
        3.4.3 物镜仿真示例第73-77页
    3.5 本章小结第77-80页
第4章 偏振像差测量:穆勒矩阵测量研究第80-104页
    4.1 概述第80页
    4.2 测量原理及优化第80-89页
        4.2.1 穆勒矩阵测量原理第80-85页
        4.2.2 条件数优化第85-89页
    4.3 误差分析第89-98页
        4.3.1 误差来源及分类第89-90页
        4.3.2 系统误差分析第90-95页
        4.3.3 随机误差分析第95-96页
        4.3.4 公差分析第96-98页
    4.4 系统误差标定第98-102页
        4.4.1 解析法标定第98-100页
        4.4.2 优化算法标定第100-102页
    4.5 本章小结第102-104页
第5章 总结与展望第104-108页
    5.1 全文总结第104-105页
    5.2 论文创新点第105-106页
    5.3 工作展望第106-108页
参考文献第108-114页
致谢第114-116页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第116页

论文共116页,点击 下载论文
上一篇:国际投资仲裁管辖权研究
下一篇:激光导星高精度波前探测与重构方法研究