| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.0 课题背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.1 气敏传感器 | 第10-14页 |
| 1.1.1 气敏传感器的定义与分类 | 第10-11页 |
| 1.1.2 气敏传感器的主要性能指标 | 第11-13页 |
| 1.1.3 气敏传感器的发展趋势 | 第13-14页 |
| 1.2 三氧化钨纳米结构气敏传感器 | 第14-19页 |
| 1.2.1 三氧化钨简介 | 第14-16页 |
| 1.2.2 三氧化钨气敏传感器的气敏机理 | 第16-18页 |
| 1.2.3 三氧化钨气敏传感器研究现状 | 第18-19页 |
| 1.3 溶剂热法制备形貌可控的氧化钨纳米结构气敏传感器研究现状 | 第19-21页 |
| 1.4 本论文研究工作的目的和内容 | 第21-23页 |
| 第二章 样品制备及测试方法 | 第23-31页 |
| 2.1 实验材料和仪器 | 第23-24页 |
| 2.2 样品制备过程 | 第24-27页 |
| 2.2.1 氧化钨纳米结构的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.2 氧化钨纳米结构气敏元件的制备 | 第25-27页 |
| 2.3 样品微观结构形貌表征 | 第27-28页 |
| 2.3.1 SEM微观形貌分析 | 第27-28页 |
| 2.3.2 TEM超微结构分析 | 第28页 |
| 2.3.3 XRD晶体结构分析 | 第28页 |
| 2.4 气敏性能测试 | 第28-31页 |
| 2.4.1 气敏测试系统 | 第28-29页 |
| 2.4.2 气敏测试方法 | 第29-31页 |
| 第三章 反应液中水的含量对氧化钨纳米结构气敏传感器性能影响研究 | 第31-41页 |
| 3.1 反应液中水的含量对氧化钨纳米结构微观结构和形貌研究 | 第31-34页 |
| 3.1.1 SEM表面形貌分析 | 第31-32页 |
| 3.1.2 TEM分析 | 第32-33页 |
| 3.1.3 XRD物相分析 | 第33-34页 |
| 3.2 反应液中水的含量对氧化钨纳米结构气敏性能研究 | 第34-37页 |
| 3.2.1 工作温度对氧化钨纳米结构气敏传感器的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.2 氧化钨纳米结构气敏传感器的NO_2气敏性能研究 | 第35-37页 |
| 3.3 氧化钨纳米结构的生长机理研究 | 第37-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-41页 |
| 第四章 反应温度对氧化钨纳米结构气敏传感器性能影响研究 | 第41-49页 |
| 4.1 反应温度对氧化钨纳米结构微观结构和形貌研究 | 第41-43页 |
| 4.1.1 SEM表面形貌分析 | 第41-42页 |
| 4.1.2 XRD物相分析 | 第42-43页 |
| 4.2 溶剂热反应温度对氧化钨纳米结构气敏性能研究 | 第43-46页 |
| 4.2.1 工作温度对氧化钨纳米结构气敏传感器的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.2 氧化钨纳米结构气敏传感器的NO_2气敏性能研究 | 第44-46页 |
| 4.2.3 氧化钨纳米结构气敏传感器的气体选择性研究 | 第46页 |
| 4.3 氧化钨纳米结构的生长机理研究 | 第46-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 反应溶剂对氧化钨纳米结构气敏传感器性能影响研究 | 第49-59页 |
| 5.1 反应溶剂对氧化钨纳米结构微观结构和形貌研究 | 第49-52页 |
| 5.1.1 SEM表面形貌分析 | 第49-50页 |
| 5.1.2 TEM分析 | 第50-51页 |
| 5.1.3 XRD物相分析 | 第51-52页 |
| 5.2 反应溶剂对氧化钨纳米结构气敏性能研究 | 第52-56页 |
| 5.2.1 工作温度对氧化钨纳米结构气敏传感器的影响 | 第52-53页 |
| 5.2.2 氧化钨纳米结构气敏传感器的NO_2气敏性能研究 | 第53-55页 |
| 5.2.3 氧化钨纳米结构气敏传感器的气体选择性研究 | 第55-56页 |
| 5.3 氧化钨纳米结构气敏传感器的气敏机理研究 | 第56-57页 |
| 5.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第六章 总结与展望 | 第59-63页 |
| 6.1 总结与讨论 | 第59-60页 |
| 6.2 工作展望 | 第60-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
