| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 局域表面等离子体共振及其研究背景介绍 | 第9-10页 |
| 1.2 LSPR的传感模式 | 第10-11页 |
| 1.3 VO_2简介 | 第11-13页 |
| 1.4 VO_2的应用 | 第13-15页 |
| 1.4.1 VO_2在智能窗的应用 | 第13-14页 |
| 1.4.2 VO_2薄膜在相变存储器的应用 | 第14页 |
| 1.4.3 VO_2在调节局域表面等离子体共振特性的应用 | 第14-15页 |
| 1.5 Au/VO_2复合结构的应用领域及研究现状 | 第15-17页 |
| 1.6 本课题研究内容与意义 | 第17-19页 |
| 第2章 基本制备方法及分析方法 | 第19-29页 |
| 2.1 VO_2薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| 2.1.1 溶胶凝胶法 | 第19-20页 |
| 2.1.2 水热法 | 第20页 |
| 2.1.3 聚合物辅助沉积法 | 第20-21页 |
| 2.1.4 溅射法 | 第21-22页 |
| 2.2 贵金属纳米颗粒的制备方法 | 第22-26页 |
| 2.2.1 双还原剂法 | 第22-23页 |
| 2.2.2 腐蚀法 | 第23-24页 |
| 2.2.3 离子束刻蚀法 | 第24页 |
| 2.2.4 纳米球刻蚀法 | 第24-26页 |
| 2.3 测试仪器与分析方法 | 第26-29页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第26-27页 |
| 2.3.2 原子力显微镜和扫描电子显微镜 | 第27-28页 |
| 2.3.3 傅里叶红外光谱仪 | 第28页 |
| 2.3.4 四探针测试系统 | 第28-29页 |
| 第3章 热致相变氧化钒薄膜的制备及性能研究 | 第29-43页 |
| 3.1 氧化钒薄膜的制备 | 第29-31页 |
| 3.1.1 蓝宝石基片的清洗 | 第29-30页 |
| 3.1.2 金属钒薄膜的制备 | 第30页 |
| 3.1.3 快速热处理形成氧化钒薄膜 | 第30-31页 |
| 3.2 氧化钒薄膜的性能研究 | 第31-40页 |
| 3.2.1 制备参数对薄膜结晶的影响 | 第31-33页 |
| 3.2.2 制备参数对薄膜微观形貌的影响 | 第33-36页 |
| 3.2.3 制备参数对薄膜光学特性的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.4 制备参数对氧化钒薄膜相变特性的影响 | 第37-40页 |
| 3.3 本章小结 | 第40-43页 |
| 第4章 Au三角颗粒阵列/VO_2复合结构的制备以及性能研究 | 第43-57页 |
| 4.1 Au三角纳米颗粒阵列的制备 | 第43-46页 |
| 4.1.1 单层SiO_2纳米球阵列的制备 | 第43-44页 |
| 4.1.2 沉积Au薄膜 | 第44-45页 |
| 4.1.3 超声振荡去除SiO_2纳米球掩膜层 | 第45页 |
| 4.1.4 Au三角纳米颗粒阵列的光学特性 | 第45-46页 |
| 4.2 Au三角颗粒阵列/VO_2薄膜复合结构的制备以及性能研究 | 第46-53页 |
| 4.2.1 Au三角颗粒阵列/VO_2薄膜复合结构的制备 | 第46-47页 |
| 4.2.2 退火时间对Au三角颗粒阵列/VO_2薄膜复合结构的性能影响 | 第47-50页 |
| 4.2.3 薄膜厚度对Au三角颗粒阵列/VO_2薄膜复合结构的性能影响 | 第50-53页 |
| 4.3 Au三角颗粒阵列/VO_2颗粒复合结构的制备以及性能研究 | 第53-56页 |
| 4.3.1 Au三角颗粒阵列/VO_2颗粒复合结构的制备 | 第53页 |
| 4.3.2 退火时间对Au三角颗粒阵列/VO_2颗粒复合结构的性能影响 | 第53-55页 |
| 4.3.3 颗粒厚度对Au三角颗粒阵列/VO_2颗粒复合结构的性能影响 | 第55-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 总结与展望 | 第57-61页 |
| 5.1 总结 | 第57-58页 |
| 5.2 工作展望 | 第58-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第67-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
