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65nm工艺下一种新型单粒子多瞬态测试系统的研究与设计

摘要第9-11页
ABSTRACT第11-12页
第一章 绪论第13-23页
    1.1 课题研究背景与意义第13-16页
        1.1.1 SET成为纳米抗辐射集成电路软错误的主要因素第13-14页
        1.1.2 单粒子瞬态新特性的研究需求迫切第14-15页
        1.1.3 SET测试技术是开展相关研究的基础其重要性尤为突出第15-16页
    1.2 国内外相关研究现状与不足第16-20页
        1.2.1 SET试验表征技术的现状与趋势第16-19页
        1.2.2 SEMT测量系统的研究不足与挑战第19-20页
    1.3 课题研究内容与文章结构第20-23页
        1.3.1 本文的主要研究内容第20-21页
        1.3.2 本文的组织结构第21-23页
第二章 SEMT测量技术研究第23-31页
    2.1 单SET测量电路回顾第23-25页
    2.2 SEMT测量技术第25-29页
        2.2.1 SEMT测量电路第25-26页
        2.2.2 电路的时序控制第26-27页
        2.2.3 电路的抗辐射加固设计第27-29页
    2.3 本章小结第29-31页
第三章 SEMT被测电路设计第31-40页
    3.1 单粒子瞬态的产生机理第31-34页
        3.1.1 研究现状第31-33页
        3.1.2 研究不足第33-34页
    3.2 SEMT产生电路设计第34-38页
        3.2.1 PMOS轰击单元设计第34-36页
        3.2.2 NMOS轰击单元设计第36-37页
        3.2.3 SEMT轰击链的设计第37-38页
    3.3 本章小结第38-40页
第四章 SEMT测试芯片的设计及验证第40-48页
    4.1 测试芯片的设计第40-44页
        4.1.1 测试系统具体设置第40-42页
        4.1.2 测试芯片设计流程第42-44页
    4.2 芯片物理验证第44-46页
    4.3 芯片功能验证第46-47页
    4.4 本章小结第47-48页
第五章 地面辐射试验第48-63页
    5.1 辐射试验平台简介第48-50页
    5.2 试验测试系统设计第50-59页
        5.2.1 SEMT测试硬件系统设计第51-55页
        5.2.2 SEMT测试软件设计第55-59页
    5.3 重离子辐射试验测量结果及分析第59-61页
        5.3.1 试验配置第59-60页
        5.3.2 实测数据和结果分析第60-61页
    5.4 本章小结第61-63页
第六章 结束语第63-67页
    6.1 本文工作总结第63-64页
    6.2 未来工作展望第64-67页
致谢第67-69页
参考文献第69-75页
作者在学期间取得的学术成果第75页

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