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基于线性规划的集成电路低功耗设计和抗退化方法研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-23页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第9-10页
    1.2 国内外研究现状及分析第10-20页
        1.2.1 集成电路典型退化效应分析第10-13页
        1.2.2 抗退化策略方法现状分析第13-16页
        1.2.3 电路静态功率来源及低功耗设计方法现状分析第16-18页
        1.2.4 输入向量控制法研究现状分析第18-20页
    1.3 本文研究内容与结构第20-23页
第2章 集成电路NBTI效应与静态功率建模方法研究第23-31页
    2.1 引言第23页
    2.2 N BTI效应下集成电路延迟退化建模分析第23-28页
        2.2.1 基于反应-扩散模型的N BTI效应物理模型第23-24页
        2.2.2 N BTI效应下PMOS晶体管阈值电压退化建模方法第24-26页
        2.2.3 N BTI效应下的门电路延迟退化建模方法第26-28页
    2.3 集成电路静态功率建模方法研究第28-29页
    2.4 输入向量对电路静态功率和延迟退化指标影响分析第29-30页
        2.4.1 输入向量对电路静态功率的影响分析第29页
        2.4.2 输入向量对电路延迟退化的影响分析第29-30页
    2.5 本章小结第30-31页
第3章 基于线性规划策略的输入向量控制方法第31-38页
    3.1 引言第31页
    3.2 输入向量控制法介绍第31-32页
    3.3 面向NBTI效应的输入向量控制方法第32-34页
    3.4 面向静态功率约减的输入向量控制方法第34-35页
    3.5 传统输入向量控制法问题分析第35-36页
    3.6 本章小结第36-38页
第4章 考虑NBTI效应的静态功率自适应约减方法第38-56页
    4.1 引言第38页
    4.2 N BTI效应对于集成电路静态功率影响分析第38-40页
    4.3 基于支持向量回归的门电路静态功率建模方法第40-43页
    4.4 静态功率自适应约减方法实现第43-46页
        4.4.1 PMOS晶体管累积性老化分析第43-44页
        4.4.2 静态功率自适应约减方法实现过程第44-46页
    4.5 静态功率自适应约减方法验证第46-55页
        4.5.1 实验设置第46-47页
        4.5.2 基于SVR静态功率模型误差分析第47-49页
        4.5.3 静态功率自适应约减法效果分析第49-55页
    4.6 本章小结第55-56页
第5章 集成电路NBTI效应和静态功率联合约减方法第56-70页
    5.1 引言第56页
    5.2 潜在关键路径分析第56-58页
    5.3 N BTI延迟退化与静态功率联合优化方法实现第58-61页
        5.3.1 基于ILP策略的延迟与静态功率联合优化方法建模第58-60页
        5.3.2 N BTI延迟退化与静态功率联合优化方法实现过程第60-61页
    5.4 N BTI延迟退化与静态功率联合优化方法验证第61-69页
        5.4.1 实验设置第61-62页
        5.4.2 不同IVC方法优化效果分析第62-65页
        5.4.3 IVC与SVA联合方法效果分析第65-69页
    5.5 本章小结第69-70页
结论第70-72页
参考文献第72-79页
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果第79-81页
致谢第81页

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