40 nm可制造标准单元库的设计与实现
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 插图索引 | 第10-12页 |
| 附表索引 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| ·建库背景和意义 | 第13-15页 |
| ·纳米时代面临的可制造性设计问题 | 第15-19页 |
| ·纳米时代的光刻 | 第15-17页 |
| ·纳米时代的化学机械抛光 | 第17-18页 |
| ·纳米时代的其他可制造性问题 | 第18-19页 |
| ·标准单元库的发展趋势 | 第19-20页 |
| ·本论文的主要内容及结构安排 | 第20-23页 |
| ·主要内容 | 第20-21页 |
| ·本论文结构安排 | 第21-23页 |
| 第2章 建库流程及设计方案 | 第23-36页 |
| ·40 nm 可制造标准单元库建库流程 | 第23-24页 |
| ·40 nm 可制造标准单元库单元的选定 | 第24-28页 |
| ·组合逻辑单元 | 第27页 |
| ·时序逻辑单元 | 第27页 |
| ·特殊单元 | 第27-28页 |
| ·单位驱动反相器的设计 | 第28-29页 |
| ·其他逻辑单元尺寸的设计依据 | 第29-31页 |
| ·单元电路结构的确定 | 第31-34页 |
| ·多路选择器(MUX2) | 第31-33页 |
| ·锁存器(LAT) | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第3章 40 nm 可制造标准单元库的设计 | 第36-57页 |
| ·40 nm 标准单元库版图设计规范 | 第36-41页 |
| ·40 nm 工艺设计规则 | 第36-38页 |
| ·标准单元库版图设计规范 | 第38-41页 |
| ·版图的可制造性优化 | 第41-46页 |
| ·版图的 DFM 规则优化 | 第42-43页 |
| ·版图的光学模拟仿真优化 | 第43-46页 |
| ·单元版图物理验证 | 第46-49页 |
| ·DRC 验证 | 第47-48页 |
| ·LVS 验证 | 第48-49页 |
| ·单元版图后仿真 | 第49-51页 |
| ·单元库其他库模型的建立 | 第51-56页 |
| ·综合库建立 | 第51-53页 |
| ·仿真库建立 | 第53页 |
| ·布局布线库建立 | 第53-55页 |
| ·符号库的建立 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 40 nm 可制造标准单元库的验证 | 第57-71页 |
| ·标准单元库的可制造性验证 | 第57-59页 |
| ·标准单元库的性能验证 | 第59-64页 |
| ·标准单元库流片验证 | 第64-69页 |
| ·功能验证 | 第66-67页 |
| ·时序性能验证 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 结论与展望 | 第71-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第78-79页 |
| 附录 B Milkyway 数据格式的提取脚本 | 第79-83页 |
