集成电路软错误问题研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-27页 |
| ·集成电路中的软错误 | 第10-13页 |
| ·研究意义 | 第13-14页 |
| ·研究现状 | 第14-21页 |
| ·降低软错误率的方法 | 第14-17页 |
| ·组合逻辑电路的软错误分析 | 第17-20页 |
| ·高层次软错误分析 | 第20-21页 |
| ·研究方法 | 第21-25页 |
| ·放射性粒子电荷注入模型 | 第21-22页 |
| ·临界电量同软错误率的关系 | 第22-23页 |
| ·临界电量的仿真方法 | 第23-25页 |
| ·创新点及论文结构安排 | 第25-27页 |
| 第2章 时序逻辑电路中的软错误 | 第27-43页 |
| ·本章引论 | 第27-28页 |
| ·工艺扰动 | 第28-29页 |
| ·工艺扰动影响的最坏情况分析 | 第29-35页 |
| ·研究对象和方法 | 第29-31页 |
| ·仿真结果 | 第31-35页 |
| ·工艺扰动影响的统计分析 | 第35-42页 |
| ·研究对象和方法 | 第35-36页 |
| ·仿真结果 | 第36-38页 |
| ·临界电量分布与工艺扰动分布间的关系 | 第38-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第3章 组合逻辑电路中的软错误 | 第43-66页 |
| ·本章引论 | 第43-45页 |
| ·脉冲宽度模型 | 第45-49页 |
| ·软错误的传播 | 第49-55页 |
| ·电压脉冲传播的例子 | 第49-50页 |
| ·反相器链的例子 | 第50-52页 |
| ·逻辑门延时与临界电量的关系 | 第52-53页 |
| ·电路输出端的重要性 | 第53-55页 |
| ·重新映射方法 | 第55-64页 |
| ·重新映射方法的提出 | 第55-56页 |
| ·输出端重新映射方法 | 第56-59页 |
| ·输出端重新映射方法的效果 | 第59-61页 |
| ·特征尺寸缩小对重新映射方法的影响 | 第61-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第4章 软错误分析工具 | 第66-83页 |
| ·本章引论 | 第66-68页 |
| ·软错误分析工具采用的模型 | 第68-74页 |
| ·模型参数 | 第68-71页 |
| ·模型参数提取 | 第71-74页 |
| ·软错误计算过程 | 第74-79页 |
| ·程序流程 | 第74-76页 |
| ·遍历算法 | 第76-79页 |
| ·验证及比较 | 第79-82页 |
| ·精度 | 第80-81页 |
| ·速度 | 第81-82页 |
| ·小结 | 第82-83页 |
| 第5章 OpenRisc 1200 的软错误分析 | 第83-92页 |
| ·本章引论 | 第83页 |
| ·OpenRisc 1200 介绍 | 第83-85页 |
| ·临界电量与脉冲宽度分布 | 第85-87页 |
| ·输出端误码率分布 | 第87-89页 |
| ·电路性能对软错误率的影响 | 第89-90页 |
| ·高层次软错误模型的分析误差 | 第90-91页 |
| ·小结 | 第91-92页 |
| 第6章 论文总结 | 第92-94页 |
| ·本文的贡献 | 第92页 |
| ·今后的研究工作 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第99页 |
