| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·ZNO 的特性 | 第11-16页 |
| ·ZnO 的晶体学结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜的材料特性 | 第12-14页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第14-16页 |
| ·ZNO 薄膜制备技术进展 | 第16-21页 |
| ·磁控溅射法 | 第16-17页 |
| ·金属有机物化学气相沉积（MOCVD） | 第17-18页 |
| ·溶胶凝胶法（Sol－Gel） | 第18页 |
| ·脉冲激光沉积法（PLD） | 第18-19页 |
| ·超声雾化热解法 | 第19-20页 |
| ·分子束外延法（MBE） | 第20页 |
| ·电化学沉积法 | 第20-21页 |
| ·本课题的提出、研究内容与意义 | 第21-23页 |
| 第二章 电化学沉积理论、实验和表征手段 | 第23-36页 |
| ·电化学沉积的基本原理 | 第23-25页 |
| ·电沉积ZNO 薄膜的原理 | 第25-26页 |
| ·实验方案 | 第26-30页 |
| ·实验试剂和仪器设备 | 第26-28页 |
| ·实验体系 | 第28-29页 |
| ·实验过程 | 第29-30页 |
| ·性能测试与薄膜表征 | 第30-36页 |
| ·X 射线衍射仪（XRD） | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第31页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第31-32页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第32-33页 |
| ·薄膜光学电学性能分析 | 第33-36页 |
| 第三章 水溶液体系下ZNO 薄膜的制备及性能分析 | 第36-60页 |
| ·生长过程分析 | 第36-46页 |
| ·循环伏安（CV）分析 | 第36-38页 |
| ·各主要影响因素的讨论 | 第38-44页 |
| ·正交实验分析 | 第44-46页 |
| ·薄膜物相结构的研究 | 第46-49页 |
| ·沉积电位对薄膜物相结构的影响 | 第46-47页 |
| ·溶液浓度对薄膜物相结构的影响 | 第47-48页 |
| ·退火处理对薄膜物相结构的影响 | 第48-49页 |
| ·薄膜表面形貌的研究 | 第49-53页 |
| ·沉积电位对薄膜表面形貌的影响 | 第49-51页 |
| ·溶液浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第51-52页 |
| ·退火处理对薄膜表面形貌的影响 | 第52-53页 |
| ·薄膜微区成分的研究 | 第53-55页 |
| ·薄膜光学电学性能的研究 | 第55-60页 |
| ·薄膜的透射光谱分析 | 第55-58页 |
| ·薄膜的电学性能分析 | 第58-60页 |
| 第四章 非水溶液体系下ZNO 薄膜的制备及性能分析 | 第60-71页 |
| ·生长过程分析 | 第60-61页 |
| ·薄膜物相结构的研究 | 第61-64页 |
| ·沉积电位对薄膜物相结构的影响 | 第61-62页 |
| ·溶液浓度对薄膜物相结构的影响 | 第62-63页 |
| ·退火处理对薄膜物相结构的影响 | 第63-64页 |
| ·薄膜表面形貌的研究 | 第64-68页 |
| ·沉积电位对薄膜表面形貌的影响 | 第64-66页 |
| ·溶液浓度对薄膜表面形貌的影响 | 第66-67页 |
| ·退火处理对薄膜表面形貌的影响 | 第67-68页 |
| ·薄膜光学电学性能的研究 | 第68-71页 |
| ·薄膜的透射光谱分析 | 第68-69页 |
| ·薄膜电学性能的研究 | 第69-71页 |
| 第五章 结论 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第80-81页 |