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硅基片上螺旋电感特性研究及其在射频芯片中的应用

第一章 绪论第1-19页
   ·引言第10-11页
   ·硅基片上电感在射频前端的应用前景第11-13页
     ·滤波网络中的应用第11-12页
     ·低噪声放大器中的应用第12页
     ·压控振荡器中的应用第12-13页
   ·国内外研究现状第13-17页
     ·不同结构的研究第13-15页
     ·衬底和金属材料优化的研究第15-16页
     ·建立RLC模型的研究第16页
     ·电感值算法研究第16-17页
     ·电感优化设计研究第17页
   ·本文的立题意义和研究内容第17-19页
     ·立题意义第17-18页
     ·研究内容第18-19页
第二章 电感的理论分析基础第19-29页
   ·电感的物理基础第19-21页
     ·法拉第电磁感应定律和楞次定律第19页
     ·集成片上电感器的定义第19-20页
     ·品质因子第20页
     ·自谐振频率第20-21页
   ·片上电感的损耗分析第21-22页
     ·衬底损耗分析第21页
     ·金属层损耗分析第21-22页
   ·片上电感的RLC模型第22-29页
     ·单π物理模型第23-26页
     ·改进的单π物理模型第26-27页
     ·双π宽带物理模型第27-29页
第三章 片上螺旋电感的分圈迭代算法第29-39页
   ·GreenHouse算法第29-30页
     ·自感的计算第29-30页
     ·互感的计算第30页
   ·三种闭合公式算法第30-32页
     ·改进的Wheeler公式第31页
     ·电流近似公式第31-32页
     ·数值拟合公式第32页
   ·高效的分圈迭代逼近算法第32-35页
     ·概述第32-33页
     ·自感分圈算法第33-34页
     ·互感整体平均算法第34-35页
   ·电感值和版图参数间互逆运算的实现第35-36页
     ·电感值计算及程序第35-36页
     ·版图参数计算及程序第36页
   ·分圈叠代算法的精度第36-39页
第四章 片上电感性能分析和优化设计第39-50页
   ·工艺参量对电感性能的影响分析第39-41页
     ·金属材料对性能的影响第39-40页
     ·衬底对性能的影响第40-41页
   ·结构对电感性能的影响分析第41-46页
     ·不同形状电感的分析第41-42页
     ·圈数与Q、f_(Qmax)关系第42-45页
     ·线宽、间距与Q、f_(Qmax)第45-46页
   ·新颖的线宽间距渐变的电感第46-50页
     ·四种线宽间距变化的结构分析第47-48页
     ·圈数不同的优化分析第48-50页
第五章 硅基片上电感的制备和测试分析第50-61页
   ·片上电感的制备第50-52页
     ·工艺流程第50-51页
     ·工艺探讨第51页
     ·实验所得的样品图片第51-52页
   ·高频在片测试系统及原理第52-54页
     ·高频在片测试原理第52-53页
     ·在片测试系统第53-54页
   ·测试数据处理方法第54-56页
     ·S参数的去嵌入第55-56页
     ·测试参数提取第56页
   ·测试结果与分析第56-61页
     ·不同形状的电感第56-57页
     ·圈数不同的电感第57-59页
     ·线宽间距渐变的优化电感第59-61页
第六章 片上电感在LC滤波器的应用第61-67页
   ·LC滤波器的设计第61-64页
     ·MIM电容设计第61页
     ·LC滤波器设计与仿真第61-64页
   ·LC滤波器的制备第64-65页
   ·测试结果分析第65-67页
     ·LC低通滤波器的测试结果第65-67页
结论及展望第67-69页
参考文献第69-72页
致谢第72页

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