ZnO光电功能薄膜材料的CMP研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第一章 绪论	第10-21页
·化学机械平坦化技术的发展	第10-16页
·化学机械平坦化	第10-11页
·CMP在IC领域的应用、发展及面临的挑战	第11-16页
·光电功能材料氧化锌化学机械平坦化国内外研究状况	第16-18页
·本论文研究的目的和意义	第18-19页
·本论文的研究的思路与内容	第19-21页
·本论文的研究思路	第19页
·本论文研究的主要内容	第19-21页
第二章 样品的制备与实验测试表征	第21-29页
·样品的制备——氧化锌薄膜的生长	第21-25页
·氧化锌薄膜的生长	第21-22页
·氧化锌薄膜表面形貌的表征	第22-24页
·氧化锌薄膜厚度的表征	第24-25页
·抛光液的配制	第25-26页
·抛光液磨料的选择及其性质	第25-26页
·抛光液配制方法	第26页
·氧化锌薄膜的CMP实验	第26-29页
第三章 氧化锌薄膜抛光液的研究	第29-41页
·抛光液PH值对氧化锌薄膜抛光的影响	第29-33页
·抛光液pH值实验条件	第29-30页
·抛光液pH值对抛光速率及表面粗糙度的影响	第30-33页
·磨料粒径大小对抛光的影响	第33-36页
·不同磨料粒径实验条件	第34页
·不同磨料粒径对抛光的影响	第34-36页
·不同磨料浓度对抛光的影响	第36-39页
·不同磨料浓度对抛光的影响	第37页
·实验结果分析	第37-39页
·小结	第39-41页
第四章 抛光工艺参数的研究	第41-53页
·下压力对氧化锌薄膜抛光的影响	第41-44页
·下压力抛光实验条件	第41-42页
·下压力工艺参数对抛光的影响	第42-44页
·抛光盘转速对氧化锌薄膜抛光的影响	第44-47页
·抛光盘转速实验条件	第44-45页
·抛光盘转速影响分析	第45-47页
·氧化锌薄膜化学机械平坦化机理研究	第47-49页
·不同的抛光液流量对氧化锌薄膜抛光的影响	第49-51页
·抛光液流量的实验条件	第49页
·抛光液流量对抛光影响分析	第49-51页
·小结	第51-53页
第五章 总结与展望	第53-54页
参考文献	第54-60页
发表论文和科研情况说明	第60-62页
致谢	第62-63页