首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--场效应器件论文

基于表面势的HEMT模型研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第1章 绪论第9-16页
   ·PHEMT(HEMT)的发展及其应用第9-11页
   ·建模的必要性及其现状第11-14页
     ·建模的意义第11-12页
     ·GaAs HEMT 建模现状第12-13页
     ·主要的商用模型及方法第13-14页
   ·本文的主要内容及结构第14-16页
第2章 HEMT 基本工作机理第16-28页
   ·HEMT 基本结构第16页
   ·GaAs HEMT 的基本工作原理第16-28页
     ·结构参数分析第16-18页
     ·工作机理第18-19页
     ·二维电子气(2-DEG)第19-21页
     ·面电子密度(ns)第21-24页
     ·阈值电压和I-V 特性第24-26页
     ·栅电容和截止频率fT第26-28页
第3章 MOSFET 的表面势基模型第28-46页
   ·Pao-sah 模型第28-30页
   ·薄层电荷模型[35-40]第30-34页
   ·PSP 模型[46]第34-46页
     ·表面势求解第36-40页
     ·电流方程第40-43页
     ·本征电荷第43-46页
第4章 模型推导第46-64页
   ·器件结构分析第46-51页
   ·饱和点和分段点第51-53页
     ·饱和点第51-53页
     ·分段点第53页
   ·解析求解表面势第53-57页
   ·电流电压方程第57-60页
   ·电荷方程第60-62页
   ·小结第62-64页
第5章 仿真结果分析第64-67页
   ·解析求解表面势结果第64页
   ·电流电压曲线结果第64-66页
   ·电荷曲线结果第66页
   ·小结第66-67页
第6章 总结和展望第67-68页
   ·总结第67页
   ·今后工作展望第67-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-74页
附录第74页

论文共74页,点击 下载论文
上一篇:基于二氧化铪的高介电常数薄膜的制备与研究
下一篇:PLD低温制备富硅SiO2薄膜及其应用