| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11-14页 |
| ·MOSFET 的简介 | 第12-13页 |
| ·MOSFET 等比例缩小规则 | 第13-14页 |
| ·SiO_2作为栅介质的局限性 | 第14-15页 |
| ·MOSFET 按等比例缩小带来的问题 | 第14页 |
| ·硼扩散和穿透 | 第14-15页 |
| ·高K 栅介质材料 | 第15-19页 |
| ·等效氧化物厚度的概念 | 第15-16页 |
| ·高介电常数栅介质材料的要求 | 第16-18页 |
| ·高k 栅介质的研究进展 | 第18-19页 |
| ·HfO_2的性质与应用 | 第19-21页 |
| ·HfO_2的性质 | 第19-20页 |
| ·HfO_2作为高K 栅材料的优势 | 第20页 |
| ·HfO_2国内外研究现状 | 第20-21页 |
| ·本论文的研究内容及意义 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第2章 薄膜的制备原理和表征技术 | 第23-36页 |
| ·薄膜制备工艺及原理 | 第23-28页 |
| ·直流反应磁控溅射制备薄膜技术 | 第23-24页 |
| ·直流反应磁控溅射的原理 | 第23-24页 |
| ·直流反应磁控溅射特点及其影响因素 | 第24页 |
| ·直流反应磁控溅射系统 | 第24-26页 |
| ·激光脉冲沉积制备薄膜技术 | 第26-27页 |
| ·激光脉冲沉积原理 | 第26-27页 |
| ·脉冲激光沉积特点及其影响因素 | 第27页 |
| ·脉冲激光沉积系统 | 第27-28页 |
| ·热蒸发系统 | 第28-29页 |
| ·薄膜的表征技术 | 第29-35页 |
| ·薄膜的晶体结构测试 | 第29-30页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第30-32页 |
| ·薄膜的电学性能测试理论 | 第32-35页 |
| ·HfO_2薄膜的介电特性 | 第32-34页 |
| ·栅介质漏电流机制 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 Hf0_2薄膜的制备及性能研究 | 第36-50页 |
| ·HfO_2薄膜的制备 | 第36-38页 |
| ·不同氧流量对薄膜性能的影响 | 第38-41页 |
| ·晶体结构 | 第38页 |
| ·电学性能 | 第38-41页 |
| ·不同氧气流量下HfO_2薄膜的J~V 特性 | 第38-41页 |
| ·不同氧气流量下HfO_2薄膜的C~V 特性 | 第41页 |
| ·衬底温度对HfO_2薄膜性能的影响 | 第41-45页 |
| ·晶体结构 | 第41-42页 |
| ·微观结构 | 第42-43页 |
| ·电学性能 | 第43-45页 |
| ·不同衬底温度的HfO_2薄膜的J~V 特性 | 第43-45页 |
| ·不同衬底温度下HfO_2薄膜的C~V 特性 | 第45页 |
| ·金属膜后退火温度对HfO_2薄膜性能的影响 | 第45-49页 |
| ·晶体结构 | 第45-46页 |
| ·微观结构 | 第46-47页 |
| ·电学性能 | 第47-49页 |
| ·金属膜后退火HfO_2薄膜的J~V 特性 | 第47-49页 |
| ·金属膜后退火HfO_2薄膜的C~V 特性 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 Hf_(1-x)Zr_xO 薄膜的制备及性能研究 | 第50-57页 |
| ·Hf_(1-x)Zr_xO 薄膜的制备 | 第50-51页 |
| ·晶体结构 | 第51-53页 |
| ·微观结构 | 第53-54页 |
| ·电学性能 | 第54-56页 |
| ·Hf_(1-x)Zr_xO 薄膜的J~V 特性 | 第54-56页 |
| ·Hf_(1-x)Zr_xO 薄膜的C~V 特性 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 Hf_(1-x)Al_xO 薄膜的制备及性能研究 | 第57-64页 |
| ·Hf_(1-x)Al_xO 薄膜的制备 | 第57-58页 |
| ·晶体结构 | 第58-59页 |
| ·微观结构 | 第59-60页 |
| ·电学性能 | 第60-63页 |
| ·Hf_(1-x)Al_xO 薄膜的J~V 特性 | 第60-62页 |
| ·Hf_(1-x)Al_xO 薄膜的C~V 特性 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第6章 Hf_(1-x)Si_xO 薄膜的制备及性能分析 | 第64-71页 |
| ·Hf_(1-x)Si_xO 薄膜的制备 | 第64-65页 |
| ·晶体结构 | 第65-66页 |
| ·微观结构 | 第66-67页 |
| ·电学性能 | 第67-70页 |
| ·Hf_(1-x)Si_xO 薄膜的J~V 特性 | 第67-70页 |
| ·Hf_(1-x)Si_xO 薄膜的C~V 特性 | 第70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第7章 总结 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-79页 |
| 附录 | 第79页 |
