| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-24页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·氧化锌的物理与化学基本特性 | 第10-12页 |
| ·氧化锌薄膜的基本用途 | 第12-16页 |
| ·氧化锌薄膜的生长方法 | 第16-20页 |
| ·氧化锌薄膜器件介绍 | 第20-23页 |
| ·本论文的研究内容 | 第23-24页 |
| 第2章 氧化锌薄膜生长金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统 | 第24-34页 |
| ·金属有机化学气相沉积方法原理 | 第24-26页 |
| ·MOCVD 法制备薄膜的生长步骤 | 第24-25页 |
| ·MOCVD 法制备薄膜的生长机制 | 第25-26页 |
| ·用于氧化锌薄膜生长的反应系统 | 第26-34页 |
| ·技术简介 | 第26-28页 |
| ·MOCVD 法生长ZnO 源材料的选择 | 第28-30页 |
| ·用于ZnO 生长的等离子增强MOCVD 反应系统 | 第30-34页 |
| 第3章 玻璃衬底上氧化锌薄膜材料生长 | 第34-50页 |
| ·不同氧气分压下氧化锌薄膜生长 | 第35-44页 |
| ·不同温度下氧化锌薄膜生长 | 第44-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 硅衬底上氧化锌薄膜材料生长 | 第50-60页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·硅衬底上氧化锌薄膜生长的条件优化 | 第50-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 个人简历 | 第70页 |