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工艺参数对金刚石薄膜电极电化学氧化性能的影响

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第9-15页
    1.1 金刚石的结构第9-10页
    1.2 金刚石的性质第10-11页
    1.3 金刚石薄膜的研究现状及发展趋势第11-12页
    1.4 本文研究及探讨的内容第12-15页
第二章 掺硼金刚石薄膜的制备第15-21页
    2.1 金刚石薄膜制备技术第15-17页
        2.1.1 热丝CVD法(HFCVD)第15页
        2.1.2 微波等离子体(MPCVD)法第15-16页
        2.1.3 直流等离子体喷射CVD法第16-17页
    2.2 HFCVD方法沉积金刚石的生长机理第17-18页
    2.3 样品的制备第18-20页
        2.3.1 基底第18-19页
        2.3.2 热丝第19-20页
    2.4 实验流程图第20-21页
第三章 CVD金刚石薄膜表征方法第21-28页
    3.1 原子力显微镜第21-22页
    3.2 扫描电子显微镜第22-23页
    3.3 X射线衍射光谱(XRD)第23页
    3.4 电化学工作站第23-24页
    3.5 四探针测试仪器第24-28页
第四章 碳源浓度、沉积室气压对金刚石薄膜的影响第28-38页
    4.1 碳源浓度对金刚石薄膜表面状态和结构的影响第28-32页
    4.2 碳源浓度对BDD电极电化学性能的影响第32-33页
    4.3 沉积室气压对金刚石薄膜表面状态和结构的影响第33-37页
    4.4 沉积室气压对BDD电极电化学性能的影响第37-38页
第五章 衬底温度、硼掺杂浓度对金刚石薄膜的影响第38-50页
    5.1 衬底温度对金刚石薄膜表面状态和结构的影响第38-41页
    5.2 衬底温度对BDD电极电化学性能的影响第41-42页
    5.3 不同硼掺杂方式比较第42-43页
    5.4 掺硼的金刚石薄膜导电机理第43页
    5.5 硼掺杂浓度对金刚石薄膜表面状态和结构的影响第43-46页
    5.6 硼掺杂浓度对金刚石薄膜电阻率的影响第46-47页
    5.7 硼掺杂浓度对BDD电极电化学性能的影响第47页
    5.8 金刚石薄膜电极的电催化苯酚性能第47-50页
第六章 总结第50-52页
参考文献第52-58页
攻读学位期间所取得的相关成果第58-60页
致谢第60页

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