N掺杂p型ZnO材料的制备及其光电性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-13页 |
| 1.1.1 紫外光电探测器的分类 | 第10-11页 |
| 1.1.2 紫外光电探测器的发展 | 第11-13页 |
| 1.2 氧化锌材料研究意义及进展 | 第13-21页 |
| 1.2.1 氧化锌的基本性质 | 第13-16页 |
| 1.2.2 氧化锌的掺杂 | 第16-21页 |
| 1.3 本文主要研究内容和安排 | 第21-22页 |
| 第二章 氧化锌薄膜的制备技术和表征方法 | 第22-31页 |
| 2.1 氧化锌薄膜的制备技术 | 第22-25页 |
| 2.1.1 制备氧化锌薄膜常用工艺 | 第22-23页 |
| 2.1.2 磁控溅射技术 | 第23-25页 |
| 2.2 样品表征和分析手段 | 第25-30页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第25页 |
| 2.2.2 X射线衍射 | 第25-27页 |
| 2.2.3 紫外-可见分光光度法 | 第27-28页 |
| 2.2.4 光致发光谱 | 第28-29页 |
| 2.2.5 霍尔效应测试 | 第29-30页 |
| 2.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 氮化锌薄膜的制备 | 第31-41页 |
| 3.1 射频反应溅射氮化锌薄膜 | 第32-33页 |
| 3.1.1 衬底的预处理 | 第32页 |
| 3.1.2 薄膜的制备 | 第32-33页 |
| 3.2 薄膜性能的测试表征 | 第33-39页 |
| 3.2.1 氮氩比对薄膜沉积的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.2 衬底温度对结晶状况的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.3 衬底温度对沉积速率的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.4 溅射功率对沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 氮掺杂氧化锌薄膜的制备 | 第41-62页 |
| 4.1 氮化锌薄膜的氧化 | 第41-42页 |
| 4.2 氮掺杂氧化锌薄膜的性能表征 | 第42-56页 |
| 4.2.1 氮掺杂氧化锌薄膜的形貌分析 | 第42-44页 |
| 4.2.2 氮掺杂氧化锌薄膜的XRD分析 | 第44-48页 |
| 4.2.3 氮掺杂氧化锌薄膜的紫外-可见光光谱 | 第48-52页 |
| 4.2.4 氮掺杂氧化锌薄膜的霍尔效应 | 第52-56页 |
| 4.3 紫外光电导器件的制备 | 第56-61页 |
| 4.3.1 氮掺杂氧化锌薄膜的I-V特性曲线 | 第58-60页 |
| 4.3.2 氮掺杂氧化锌薄膜的紫外响应 | 第60-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 结论 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
