| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-13页 |
| ·研究背景 | 第7-8页 |
| ·国内外研究现状 | 第8-11页 |
| ·本论文的研究思路和主要内容 | 第11-13页 |
| 第二章 理论基础 | 第13-23页 |
| ·ZnO 的性质 | 第13-15页 |
| ·常见的几种制备ZnO 薄膜的方法 | 第15-18页 |
| ·PLD 技术的物理图像的简单描述 | 第18页 |
| ·PLD 技术机理研究 | 第18-23页 |
| 第三章 脉冲激光制备ZnO 薄膜对靶材烧蚀过程的研究 | 第23-33页 |
| ·脉冲激光烧蚀靶材的理论模型 | 第23-24页 |
| ·烧蚀面位置的演化规律 | 第24-26页 |
| ·靶材表面发生熔融前的温度分布规律 | 第26-28页 |
| ·靶材在表面开始发生熔融后的温度分布规律 | 第28-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第四章 脉冲激光沉积ZnO 薄膜动力学过程模拟 | 第33-44页 |
| ·理论模型 | 第33-36页 |
| ·数值模拟 | 第36-39页 |
| ·薄膜厚度分布 | 第39-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第五章 总结 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |