一种OPC友好的迷宫布线算法
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-17页 |
| ·集成电路产业发展概况 | 第7-9页 |
| ·集成电路设计技术 | 第7-9页 |
| ·集成电路制造工艺 | 第9页 |
| ·机遇与挑战——超深亚微米VLSI设计与制造 | 第9-11页 |
| ·面向可制造性设计 | 第11页 |
| ·分辨率增强技术 | 第11-12页 |
| ·RET-Aware的版图设计与优化 | 第12-15页 |
| ·考虑OPC的版图设计与优化 | 第12-14页 |
| ·考虑冗余通孔的详细布线技术 | 第14页 |
| ·考虑CMP的布图规划 | 第14页 |
| ·RET-Aware技术发展趋势 | 第14-15页 |
| ·前人的工作 | 第15-16页 |
| ·本文完成的主要工作 | 第16-17页 |
| 第2章 快速点光强计算 | 第17-27页 |
| ·OPC中的快速点光强计算 | 第17-19页 |
| ·已知阈值求EPE和关键尺寸 | 第17-19页 |
| ·已知关键尺寸求光刻阈值 | 第19页 |
| ·光刻系统模型 | 第19-20页 |
| ·卷积核分解 | 第20-22页 |
| ·建立场强贡献表 | 第22-24页 |
| ·卷积核支持区域 | 第22-23页 |
| ·相干系统的线性移不变特性 | 第23页 |
| ·建立场强贡献表 | 第23-24页 |
| ·查表快速计算点光强 | 第24-25页 |
| ·处理任意曼哈顿图形 | 第25页 |
| ·算法复杂度分析 | 第25-27页 |
| 第3章 OPC友好的迷宫布线问题描述 | 第27-33页 |
| ·迷宫布线算法 | 第27页 |
| ·OPC成本函数 | 第27-30页 |
| ·OPC友好的迷宫布线问题 | 第30-31页 |
| ·关键路径线网 | 第30-31页 |
| ·非关键路径线网 | 第31页 |
| ·其它要求和规范 | 第31-33页 |
| 第4章 OPC友好的迷宫布线算法描述 | 第33-40页 |
| ·迷宫布线算法 | 第33页 |
| ·Dijkstra最短路径算法 | 第33-34页 |
| ·关键路径布线算法 | 第34-36页 |
| ·非关键路径布线算法 | 第36-37页 |
| ·算法复杂度分析 | 第37-38页 |
| ·算法流图 | 第38-40页 |
| ·关键路径线网 | 第38-39页 |
| ·非关键路径 | 第39-40页 |
| 第5章 OPC友好的迷宫布线器实现 | 第40-51页 |
| ·输入输出文件 | 第40-44页 |
| ·配置文件Recipe | 第40-42页 |
| ·光刻系统模型 | 第42页 |
| ·输入网表文件 | 第42-43页 |
| ·输出网表文件 | 第43-44页 |
| ·Report | 第44页 |
| ·GUI | 第44-45页 |
| ·系统流图 | 第45-47页 |
| ·参数化设计 | 第47-48页 |
| ·干扰光强控制值 | 第47页 |
| ·权重系数α与β | 第47页 |
| ·路径长度控制值 | 第47-48页 |
| ·线网排序 | 第48页 |
| ·源点选择 | 第48页 |
| ·布线器定义 | 第48-51页 |
| 第6章 实验结果 | 第51-53页 |
| ·布线结果比较 | 第51-52页 |
| ·数据统计 | 第52-53页 |
| 第7章 结论与展望 | 第53-54页 |
| ·工作总结 | 第53页 |
| ·未来工作展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
