纳米级电路分辨率增强技术及可制造性设计研究
| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-18页 |
| 第1章 绪论 | 第18-34页 |
| ·引言 | 第18-19页 |
| ·集成电路生产过程其挑战 | 第19-22页 |
| ·分辨率增强技术 | 第22-28页 |
| ·移相掩模技术 | 第23-25页 |
| ·离轴照明技术 | 第25-27页 |
| ·散射条插入技术 | 第27-28页 |
| ·可制造性设计 | 第28-30页 |
| ·论文创新点及论文结构 | 第30-32页 |
| ·本章小结 | 第32-34页 |
| 第2章 相关分辨率增强技术及可制造性技术 | 第34-48页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·光学邻近校正技术 | 第34-40页 |
| ·基于规则的光学邻近校正技术 | 第34-36页 |
| ·基于模型的光学邻近校正技术 | 第36-40页 |
| ·其他光学邻近校正技术 | 第40页 |
| ·反向光刻技术 | 第40-45页 |
| ·正向纯光学模型 | 第41-43页 |
| ·正向光刻胶模型 | 第43-44页 |
| ·反向光刻问题的数学描述 | 第44-45页 |
| ·可制造性设计技术 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第3章 改进后的光学邻近校正技术 | 第48-78页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·光学邻近校正技术中的动态自适应切分技术 | 第48-63页 |
| ·现有边切分技术的困境及改进方向 | 第48-50页 |
| ·动态自适应切分算法 | 第50-56页 |
| ·实验结果及讨论 | 第56-63页 |
| ·带有映射模型的光学邻近校正技术 | 第63-77页 |
| ·校正线段与光强校正点的映射问题 | 第63-64页 |
| ·校正线段与光强校正点映射模型的推导 | 第64-70页 |
| ·映射模型计算及应用的加速方法 | 第70-73页 |
| ·映射模型在光学邻近校正中的应用及实验 | 第73-74页 |
| ·实验结果及讨论 | 第74-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第4章 热点感知反向光刻技术和并行反向光刻技术 | 第78-102页 |
| ·引言 | 第78-79页 |
| ·热点感知的反向光刻技术 | 第79-88页 |
| ·热点位置的确定 | 第80-82页 |
| ·纹波传递效应的消除 | 第82-84页 |
| ·热点感知的反向光刻技术流程 | 第84-85页 |
| ·实验结果及讨论 | 第85-88页 |
| ·面向无缝拼接的并行反向光刻技术 | 第88-101页 |
| ·传统并行反向光刻技术及分析 | 第88-92页 |
| ·面向无缝拼接的反向光刻技术 | 第92-95页 |
| ·实验结果及讨论 | 第95-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 第5章 基于卷积核的可制造性模型及建模 | 第102-114页 |
| ·引言 | 第102-103页 |
| ·可制造性模型的数学描述 | 第103-105页 |
| ·可制造性模型的建模方法 | 第105-107页 |
| ·可制造性模型有关问题的讨论 | 第107-109页 |
| ·实验结果及讨论 | 第109-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 第6章 论文总结及工作展望 | 第114-118页 |
| ·论文总结 | 第114-115页 |
| ·工作展望 | 第115-118页 |
| 参考文献 | 第118-127页 |
| 附录 | 第127-129页 |
| 作者简历及在学期间所取得的科研成果 | 第129-130页 |
