企业网络位置对专利质量的影响--以电子元器件行业为例
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 1 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-14页 |
| 1.1.1 现实背景 | 第12-13页 |
| 1.1.2 理论背景 | 第13-14页 |
| 1.2 问题提出 | 第14-15页 |
| 1.3 研究对象与关键概念 | 第15-16页 |
| 1.3.1 研究对象 | 第15-16页 |
| 1.3.2 关键概念 | 第16页 |
| 1.4 研究设计 | 第16-18页 |
| 1.4.1 技术路线 | 第16-17页 |
| 1.4.2 研究方法 | 第17-18页 |
| 1.5 内容安排 | 第18-19页 |
| 1.6 研究意义与创新点 | 第19-22页 |
| 1.6.1 研究意义 | 第19-20页 |
| 1.6.2 论文创新点 | 第20-22页 |
| 2 文献综述 | 第22-42页 |
| 2.1 专利质量研究综述 | 第22-30页 |
| 2.1.1 专利质量理论 | 第22-24页 |
| 2.1.2 专利质量指标 | 第24-29页 |
| 2.1.3 专利质量评价指数的构建方法 | 第29-30页 |
| 2.2 网络位置研究综述 | 第30-35页 |
| 2.2.1 社会网络理论 | 第30-31页 |
| 2.2.2 网络位置的概念及度量 | 第31-33页 |
| 2.2.3 专利合作网络的研究 | 第33-34页 |
| 2.2.4 网络位置与专利质量的相关研究 | 第34-35页 |
| 2.3 管理层特征研究综述 | 第35-38页 |
| 2.3.1 管理层特征理论 | 第36-37页 |
| 2.3.2 管理层特征与专利质量的相关研究 | 第37-38页 |
| 2.4 研发能力研究综述 | 第38-42页 |
| 2.4.1 研发能力理论 | 第38-40页 |
| 2.4.2 研发能力与专利质量的相关研究 | 第40-42页 |
| 3 研究模型与假设 | 第42-56页 |
| 3.1 研究模型的提出 | 第42-44页 |
| 3.2 研究假设的提出 | 第44-56页 |
| 3.2.1 网络位置对企业专利质量的影响 | 第44-47页 |
| 3.2.2 管理层特征对专利质量的影响 | 第47-49页 |
| 3.2.3 研发能力对企业专利质量的影响 | 第49-51页 |
| 3.2.4 管理层特征的调节作用 | 第51-53页 |
| 3.2.5 研发能力的调节作用 | 第53-56页 |
| 4 实证研究 | 第56-92页 |
| 4.1 样本 | 第56页 |
| 4.2 数据来源 | 第56页 |
| 4.3 专利合作网络的构建 | 第56-58页 |
| 4.4 专利质量评价指数的构建 | 第58-68页 |
| 4.4.1 指标的选取原则与方法 | 第58-59页 |
| 4.4.2 指标的选取结果 | 第59-60页 |
| 4.4.3 指标权重的确定 | 第60-62页 |
| 4.4.4 专利质量评价指数的建立 | 第62-68页 |
| 4.5 变量的测度 | 第68-73页 |
| 4.5.1 被解释变量 | 第68页 |
| 4.5.2 解释变量 | 第68-70页 |
| 4.5.3 控制变量 | 第70-73页 |
| 4.6 回归分析与假设验证 | 第73-86页 |
| 4.6.1 变量及数据处理 | 第73页 |
| 4.6.2 相关分析 | 第73-75页 |
| 4.6.3 研究假设检验 | 第75-78页 |
| 4.6.4 调节作用分析 | 第78-86页 |
| 4.7 讨论 | 第86-92页 |
| 4.7.1 网络位置与专利质量 | 第86-87页 |
| 4.7.2 管理层特征与专利质量 | 第87-88页 |
| 4.7.3 研发能力与专利质量 | 第88页 |
| 4.7.4 管理层特征的调节作用 | 第88-89页 |
| 4.7.5 研发能力的调节作用 | 第89-90页 |
| 4.7.6 建议 | 第90-92页 |
| 5 结论与展望 | 第92-96页 |
| 5.1 研究结论 | 第92-94页 |
| 5.2 不足之处与展望 | 第94-96页 |
| 5.2.1 不足之处 | 第94页 |
| 5.2.2 展望 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-112页 |
| 附录1:专利质量各指标的期刊分布情况 | 第112-114页 |
| 附录2:专利质量指标文献 | 第114-118页 |
| 作者简历及在学期间所取得的主要科研成果 | 第118页 |
