基于LabVIEW的ALD真空腔室温度模糊控制系统的设计
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第9-11页 |
| 1.2 ALD沉积技术发展及研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 原子层沉积系统发展概况 | 第12-13页 |
| 1.4 目前存在的问题分析 | 第13-14页 |
| 1.5 课题主要研究内容及方法 | 第14页 |
| 1.6 论文结构 | 第14-17页 |
| 第2章 原子层沉积技术的制备工艺及原理 | 第17-23页 |
| 2.1 ALD控制系统原理 | 第17-18页 |
| 2.2 薄膜的材料性能表征 | 第18页 |
| 2.2.1 椭偏仪(SE) | 第18页 |
| 2.2.2 原子力显微镜(AFM) | 第18页 |
| 2.3 温度与均匀性关系 | 第18-21页 |
| 2.4 本章小结 | 第21-23页 |
| 第3章 ALD温度模糊控制系统的总体设计 | 第23-33页 |
| 3.1 ALD温度模糊控制系统工作原理 | 第23-24页 |
| 3.2 ALD温度模糊控制系统硬件配置 | 第24-30页 |
| 3.2.1 温度模糊控制系统的组成及其工作原理 | 第24-26页 |
| 3.2.2 工控机 | 第26-27页 |
| 3.2.3 数据采集(DAQ)设备 | 第27-29页 |
| 3.2.4 真空泵 | 第29页 |
| 3.2.5 真空计 | 第29页 |
| 3.2.6 流量计(MFC) | 第29页 |
| 3.2.7 加热器 | 第29-30页 |
| 3.3 ALD温度模糊控制系统电气控制 | 第30-32页 |
| 3.3.1 主控电路的分析 | 第31-32页 |
| 3.3.2 NI信号控制电路分析 | 第32页 |
| 3.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 腔室温度模糊控制研究 | 第33-41页 |
| 4.1 控温要求 | 第33页 |
| 4.2 腔室温度控制方案的选取 | 第33-36页 |
| 4.3 真空腔室温度模糊控制 | 第36-37页 |
| 4.3.1 模糊控制概述 | 第36页 |
| 4.3.2 模糊控制器的基本结构和组成 | 第36-37页 |
| 4.4 腔室温度模糊控制器的设计 | 第37-40页 |
| 4.5 本章小结 | 第40-41页 |
| 第5章 ALD温度模糊控制系统的软件设计及实现 | 第41-57页 |
| 5.1 虚拟仪器软件开发环境LabVIEW简介 | 第41-42页 |
| 5.2 温度控制模块 | 第42-47页 |
| 5.2.1 Fuzzy Logic工具箱简介 | 第42页 |
| 5.2.2 腔室温度模糊控制软件实现 | 第42-45页 |
| 5.2.3 衬底温度拟合程序设计 | 第45-47页 |
| 5.3 数字通讯程序设计模块 | 第47-48页 |
| 5.4 数据处理模块 | 第48-49页 |
| 5.5 可编辑程序设计 | 第49-50页 |
| 5.6 异常报警 | 第50页 |
| 5.7 系统操作介绍 | 第50-54页 |
| 5.8 本章小结 | 第54-57页 |
| 第6章 系统运行与分析 | 第57-61页 |
| 6.1 系统稳定性测试 | 第57-59页 |
| 6.2 工艺测试 | 第59-60页 |
| 6.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第7章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 7.1 论文工作总结 | 第61页 |
| 7.2 下一步工作的展望 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间的科研成果及参与项目 | 第69页 |
