| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-34页 |
| 1.1 石墨烯晶体管的研究背景与意义 | 第11-12页 |
| 1.2 石墨烯的基本特性、制备和表征 | 第12-19页 |
| 1.2.1 石墨烯的基本结构与电学性能 | 第12-14页 |
| 1.2.2 石墨烯的制备与表征 | 第14-19页 |
| 1.3 石墨烯场效应晶体管的基本特性、前景与现状 | 第19-30页 |
| 1.3.1 石墨烯场效应晶体管的工作原理与基本结构 | 第19-22页 |
| 1.3.2 石墨烯晶体管的应用前景 | 第22-27页 |
| 1.3.3 石墨烯晶体管的研究现状 | 第27-30页 |
| 1.4 本论文的主要内容，创新与结构安排 | 第30-33页 |
| 1.4.1 课题的提出及意义 | 第30-31页 |
| 1.4.2 主要工作及创新点 | 第31-32页 |
| 1.4.3 论文的结构安排 | 第32-33页 |
| 1.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第二章 石墨烯场效应晶体管的制备工艺研究 | 第34-51页 |
| 2.1 石墨烯的制备与表征 | 第34-39页 |
| 2.2 全背栅结构石墨烯晶体管的制备 | 第39-44页 |
| 2.3 埋栅结构石墨烯晶体管的制备 | 第44-47页 |
| 2.4 顶栅结构石墨烯晶体管的制备 | 第47-50页 |
| 2.5 本章小结 | 第50-51页 |
| 第三章 高开关比石墨烯晶体管的研究 | 第51-59页 |
| 3.1 高开关比石墨烯晶体管的研究现状 | 第51-53页 |
| 3.2 一种高开关比石墨烯晶体管的制备与性能研究 | 第53-58页 |
| 3.3 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 环境对石墨烯场效应晶体管的掺杂作用 | 第59-73页 |
| 4.1 石墨烯掺杂特性概述 | 第59-64页 |
| 4.2 石墨烯晶体管性能在大气和真空中退火的变化 | 第64-67页 |
| 4.3 石墨烯晶体管性能随时间的变化 | 第67-72页 |
| 4.4 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 石墨烯场效应晶体管迟滞效应研究 | 第73-89页 |
| 5.1 石墨烯场效应晶体管栅压调制的迟滞效应 | 第73-77页 |
| 5.2 以氧化硅为栅介质的石墨烯晶体管的迟滞效应研究 | 第77-79页 |
| 5.3 以氧化铪为栅介质的石墨烯晶体管的迟滞效应研究 | 第79-82页 |
| 5.4 以非晶硅为栅介质的石墨烯晶体管的迟滞效应研究 | 第82-88页 |
| 5.5 本章小结 | 第88-89页 |
| 第六章 石墨烯晶体管的沟道尺寸与器件跨导的研究 | 第89-104页 |
| 6.1 石墨烯晶体管沟道尺寸对器件跨导的影响 | 第89-91页 |
| 6.2 相同源漏间距不同栅长的石墨烯晶体管电学性能研究 | 第91-94页 |
| 6.3 不同源漏间距相同栅长的石墨烯晶体管电学性能研究 | 第94-98页 |
| 6.4 硅栅自对准结构石墨烯晶体管的研究 | 第98-103页 |
| 6.4.1 硅栅石墨烯器件的研究意义 | 第98-100页 |
| 6.4.2 硅栅石墨烯晶体管的制备 | 第100-101页 |
| 6.4.3 硅栅自对准结构石墨烯晶体管的研究 | 第101-103页 |
| 6.5 本章小结 | 第103-104页 |
| 第七章 全文总结与展望 | 第104-106页 |
| 7.1 全文总结 | 第104-105页 |
| 7.2 后续工作展望 | 第105-106页 |
| 致谢 | 第106-107页 |
| 参考文献 | 第107-116页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第116-118页 |
