摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-34页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 ZnO 材料的晶体结构及基本性质 | 第11-15页 |
1.2.1 ZnO 的晶体结构 | 第11-12页 |
1.2.2 ZnO 的基本性质 | 第12-13页 |
1.2.3 ZnO 的能带结构 | 第13-14页 |
1.2.4 ZnO 的本征缺陷 | 第14-15页 |
1.3 ZnO 薄膜的主要湿化学法合成工艺 | 第15-18页 |
1.3.1 溶胶凝胶法 | 第16-17页 |
1.3.2 水热法 | 第17-18页 |
1.3.3 电化学沉积法 | 第18页 |
1.4 过渡元素掺杂 ZnO 薄膜的性能及应用 | 第18-26页 |
1.4.1 电学性能 | 第19页 |
1.4.2 光学性能 | 第19-20页 |
1.4.3 磁学性能 | 第20-21页 |
1.4.4 阻变特性 | 第21-24页 |
1.4.5 场发射特性 | 第24-26页 |
1.5 本论文研究的意义及主要内容 | 第26-28页 |
参考文献 | 第28-34页 |
第二章 Ni:ZnO 薄膜的水热合成及性能研究 | 第34-55页 |
2.1 实验方法 | 第34-39页 |
2.1.1 样品制备 | 第34-37页 |
2.1.2 样品表征 | 第37-39页 |
2.2 水热反应条件对薄膜结构及形貌的影响 | 第39-46页 |
2.2.1 Ni~(2+)离子掺杂浓度的影响 | 第39-42页 |
2.2.2 溶剂的影响 | 第42-45页 |
2.2.3 水热时间的影响 | 第45-46页 |
2.3 拉曼光谱分析 | 第46-48页 |
2.4 PL 光谱分析 | 第48-49页 |
2.5 电致阻变特性 | 第49-51页 |
2.6 本章小结 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-55页 |
第三章 水热法合成 NiO/ZnO 纳米复合结构及性能表征 | 第55-68页 |
3.1 实验方法 | 第55-56页 |
3.1.1 样品制备 | 第55-56页 |
3.1.2 表征手段 | 第56页 |
3.2 水热反应条件对 ZnO 纳米棒的影响 | 第56-60页 |
3.2.1 前驱体浓度的影响 | 第56-58页 |
3.2.2 反应添加物的影响 | 第58-60页 |
3.3 水热反应条件对复合结构的影响 | 第60-64页 |
3.3.1 NiO 缓冲层的影响 | 第60-62页 |
3.3.2 二次水热时间的影响 | 第62-64页 |
3.4 PL 光谱分析 | 第64-65页 |
3.5 本章小结 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
第四章 Ni:ZnO 薄膜的化学溶液沉积法合成及性能研究 | 第68-82页 |
4.1 实验方法 | 第69页 |
4.1.1 样品制备 | 第69页 |
4.1.2 性能表征 | 第69页 |
4.2 NaOH 浓度的影响 | 第69-72页 |
4.3 沉积温度的影响 | 第72-74页 |
4.4 Ni~(2+)掺杂浓度的影响 | 第74-77页 |
4.5 PL 光谱分析 | 第77-78页 |
4.6 场发射特性 | 第78-79页 |
4.7 本章小结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-82页 |
结论 | 第82-83页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第83-84页 |
致谢 | 第84-85页 |
附件 | 第85页 |