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过渡元素掺杂的ZnO薄膜的制备及性能研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-34页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 ZnO 材料的晶体结构及基本性质第11-15页
        1.2.1 ZnO 的晶体结构第11-12页
        1.2.2 ZnO 的基本性质第12-13页
        1.2.3 ZnO 的能带结构第13-14页
        1.2.4 ZnO 的本征缺陷第14-15页
    1.3 ZnO 薄膜的主要湿化学法合成工艺第15-18页
        1.3.1 溶胶凝胶法第16-17页
        1.3.2 水热法第17-18页
        1.3.3 电化学沉积法第18页
    1.4 过渡元素掺杂 ZnO 薄膜的性能及应用第18-26页
        1.4.1 电学性能第19页
        1.4.2 光学性能第19-20页
        1.4.3 磁学性能第20-21页
        1.4.4 阻变特性第21-24页
        1.4.5 场发射特性第24-26页
    1.5 本论文研究的意义及主要内容第26-28页
    参考文献第28-34页
第二章 Ni:ZnO 薄膜的水热合成及性能研究第34-55页
    2.1 实验方法第34-39页
        2.1.1 样品制备第34-37页
        2.1.2 样品表征第37-39页
    2.2 水热反应条件对薄膜结构及形貌的影响第39-46页
        2.2.1 Ni~(2+)离子掺杂浓度的影响第39-42页
        2.2.2 溶剂的影响第42-45页
        2.2.3 水热时间的影响第45-46页
    2.3 拉曼光谱分析第46-48页
    2.4 PL 光谱分析第48-49页
    2.5 电致阻变特性第49-51页
    2.6 本章小结第51-52页
    参考文献第52-55页
第三章 水热法合成 NiO/ZnO 纳米复合结构及性能表征第55-68页
    3.1 实验方法第55-56页
        3.1.1 样品制备第55-56页
        3.1.2 表征手段第56页
    3.2 水热反应条件对 ZnO 纳米棒的影响第56-60页
        3.2.1 前驱体浓度的影响第56-58页
        3.2.2 反应添加物的影响第58-60页
    3.3 水热反应条件对复合结构的影响第60-64页
        3.3.1 NiO 缓冲层的影响第60-62页
        3.3.2 二次水热时间的影响第62-64页
    3.4 PL 光谱分析第64-65页
    3.5 本章小结第65-66页
    参考文献第66-68页
第四章 Ni:ZnO 薄膜的化学溶液沉积法合成及性能研究第68-82页
    4.1 实验方法第69页
        4.1.1 样品制备第69页
        4.1.2 性能表征第69页
    4.2 NaOH 浓度的影响第69-72页
    4.3 沉积温度的影响第72-74页
    4.4 Ni~(2+)掺杂浓度的影响第74-77页
    4.5 PL 光谱分析第77-78页
    4.6 场发射特性第78-79页
    4.7 本章小结第79-80页
    参考文献第80-82页
结论第82-83页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第83-84页
致谢第84-85页
附件第85页

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