| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 ZnO 材料的基本性质 | 第8-13页 |
| 1.1.1 ZnO 的结构 | 第8-9页 |
| 1.1.2 ZnO 的能带结构 | 第9-10页 |
| 1.1.3 ZnO 的缺陷 | 第10-12页 |
| 1.1.4 ZnO 的发光机理 | 第12-13页 |
| 1.2 ZnO 薄膜的制备技术 | 第13-16页 |
| 1.2.1 金属有机化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| 1.2.2 分子束外延法 | 第14页 |
| 1.2.3 溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
| 1.2.4 磁控溅射法 | 第15页 |
| 1.2.5 脉冲激光沉积法 | 第15-16页 |
| 1.3 ZnO 薄膜的光电性能调控研究 | 第16-17页 |
| 1.3.1 退火处理 | 第16页 |
| 1.3.2 激光辐照 | 第16-17页 |
| 1.3.3 其他外界扰动手段 | 第17页 |
| 1.4 本论文研究背景及内容 | 第17-18页 |
| 1.4.1 选题意义 | 第17-18页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第18页 |
| 1.5 本章小结 | 第18-20页 |
| 第2章 ZnO 薄膜结构及性能的表征 | 第20-26页 |
| 2.1 X 射线衍射 | 第20-21页 |
| 2.2 扫描电子显微镜 | 第21-22页 |
| 2.3 光致发光谱 | 第22-23页 |
| 2.4 霍尔效应测量 | 第23页 |
| 2.5 紫外-可见-近红外透射光谱 | 第23-24页 |
| 2.6 薄膜厚度测量 | 第24-25页 |
| 2.7 本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 ZnO 薄膜样品的制备 | 第26-32页 |
| 3.1 制备方法及仪器设备 | 第26-27页 |
| 3.2 衬底材料的选择及清洗 | 第27-28页 |
| 3.3 样品的制备及 PL 谱分析 | 第28-31页 |
| 3.3.1 室温下氮气气氛生长 ZnO 薄膜 | 第28-29页 |
| 3.3.2 不同温度下氮气气氛生长 ZnO 薄膜 | 第29页 |
| 3.3.3 室温及适温下氧气气氛生长 ZnO 薄膜 | 第29-31页 |
| 3.4 ZnO 薄膜厚度的测量 | 第31页 |
| 3.5 本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 ZnO 薄膜发光性能的调控 | 第32-50页 |
| 4.1 ZnO 薄膜的后处理 | 第32-33页 |
| 4.1.1 退火处理 | 第32页 |
| 4.1.2 激光辐照 | 第32-33页 |
| 4.2 ZnO 薄膜的性能分析 | 第33-44页 |
| 4.2.1 XRD 结果分析 | 第33-35页 |
| 4.2.2 SEM 结果分析 | 第35-37页 |
| 4.2.3 发光性能分析 | 第37-42页 |
| 4.2.4 电学性能分析 | 第42-44页 |
| 4.3 发光调控 | 第44-48页 |
| 4.3.1 标准样品辐照发光调控 | 第44-46页 |
| 4.3.2 室温生长的样品的辐照发光调控 | 第46-47页 |
| 4.3.3 适温生长的样品的辐照发光调控 | 第47-48页 |
| 4.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 结论与展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文及获奖 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |