电解质—等离子加工机床控制系统开发与监控组态设计
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题研究背景及来源 | 第10-11页 |
| 1.1.1 本课题研究的背景 | 第10页 |
| 1.1.2 本课题的来源 | 第10-11页 |
| 1.2 课题研究的目的与意义 | 第11-12页 |
| 1.2.1 电解质-等离子加工技术研究的意义 | 第11页 |
| 1.2.2 电解质-等离子加工机床开发的意义 | 第11-12页 |
| 1.2.3 本课题研究的目的 | 第12页 |
| 1.3 控制系统的分类及性能指标 | 第12-13页 |
| 1.4 控制系统的发展研究现状 | 第13-18页 |
| 1.4.1 PLC 控制系统的发展 | 第13-14页 |
| 1.4.2 集散控制系统的发展 | 第14-17页 |
| 1.4.3 现场总线控制系统的发展 | 第17-18页 |
| 1.5 组态及组态软件研究现状 | 第18-21页 |
| 1.6 本课题的主要研究内容 | 第21-22页 |
| 第2章 机床控制系统的总体方案设计 | 第22-31页 |
| 2.1 机床总体方案设计的原则与流程 | 第22-23页 |
| 2.2 监控对象和监控要求的确定 | 第23-26页 |
| 2.2.1 电解质-等离子加工技术介绍 | 第23页 |
| 2.2.2 系统监控对象和任务的确定 | 第23-25页 |
| 2.2.3 系统监控要求的确定 | 第25-26页 |
| 2.3 系统总体设计方案的选择 | 第26-28页 |
| 2.3.1 控制器的选择 | 第26-27页 |
| 2.3.2 基于 IPC 的控制模式的选择 | 第27-28页 |
| 2.4 系统总体电气控制电路图的设计 | 第28-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 基于工控机的控制系统硬件架构 | 第31-50页 |
| 3.1 工控机控制系统的硬件组成 | 第31-32页 |
| 3.2 元器件的选型 | 第32-43页 |
| 3.2.1 电机的选型 | 第32-36页 |
| 3.2.2 各种接口 I/O 卡及端子板的选型 | 第36-39页 |
| 3.2.3 工业控制计算机和显示器的选型 | 第39-41页 |
| 3.2.4 传感器和变送器的选型 | 第41-42页 |
| 3.2.5 变压器和整流桥的选型 | 第42页 |
| 3.2.6 交流接触器和空气开关的选型 | 第42-43页 |
| 3.3 接口电路的设计 | 第43-46页 |
| 3.3.1 模拟量采集卡接口的设计 | 第43-44页 |
| 3.3.2 开关量 I/O 卡接口电路的设计 | 第44-45页 |
| 3.3.3 伺服电机接口电路的设计 | 第45-46页 |
| 3.4 元器件的功能测试 | 第46-47页 |
| 3.5 电气控制柜的设计 | 第47-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 控制系统组态设计与系统测试 | 第50-70页 |
| 4.1 系统组态设计分析及组态内容 | 第50-51页 |
| 4.2 组态软件的选型 | 第51-52页 |
| 4.3 工艺流程及控制流程图的设计 | 第52-56页 |
| 4.3.1 抛光工艺流程设计 | 第52-53页 |
| 4.3.2 组态控制流的分析与设计 | 第53-56页 |
| 4.4 系统基本功能的实现与测试 | 第56-63页 |
| 4.4.1 力控创建工程的一般过程 | 第57-58页 |
| 4.4.2 Modbus 协议研究 | 第58-59页 |
| 4.4.3 伺服电机控制功能的实现 | 第59-62页 |
| 4.4.4 板卡功能的实现与测试 | 第62-63页 |
| 4.5 系统特殊功能的实现 | 第63-67页 |
| 4.5.1 系统报警功能实现 | 第63-64页 |
| 4.5.2 实时曲线及 XY 曲线显示功能实现 | 第64-65页 |
| 4.4.3 参数报表生成和事件记录功能实现 | 第65-66页 |
| 4.5.4 局域网 web 发布功能实现 | 第66-67页 |
| 4.6 界面组态设计 | 第67-68页 |
| 4.7 系统脚本编写 | 第68-69页 |
| 4.8 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
