| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 前言 | 第9-20页 |
| 1.1 赭曲霉毒素概述 | 第9-12页 |
| 1.1.1 赭曲霉毒素的理化性质 | 第9页 |
| 1.1.2 赭曲霉毒素A的来源及污染情况 | 第9-10页 |
| 1.1.3 赭曲霉毒素A的危害及其限量标准 | 第10页 |
| 1.1.4 常用的检测方法 | 第10-11页 |
| 1.1.5 赭曲霉毒素A的结构类似物 | 第11-12页 |
| 1.2 分子印迹技术 | 第12-16页 |
| 1.2.1 分子印迹聚合物的制备机理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 分子印迹聚合物的制备方法 | 第13-14页 |
| 1.2.3 分子印迹聚合物制备的现状 | 第14-15页 |
| 1.2.4 分子印迹技术的应用 | 第15-16页 |
| 1.3 上转换荧光纳米材料 | 第16-18页 |
| 1.3.1 稀土上转换纳米材料简介 | 第16页 |
| 1.3.2 上转换材料的特点 | 第16页 |
| 1.3.3 上转换纳米材料的组成 | 第16-17页 |
| 1.3.4 稀土纳米晶发光材料的制备方法 | 第17-18页 |
| 1.3.5 上转换纳米材料的表面修饰 | 第18页 |
| 1.4 论文研究目的及意义 | 第18页 |
| 1.5 论文研究内容 | 第18-20页 |
| 2 材料与方法 | 第20-30页 |
| 2.1 实验材料和仪器 | 第20-22页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第20页 |
| 2.1.2 主要仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.3 主要溶液配制 | 第21-22页 |
| 2.2 实验方法 | 第22-30页 |
| 2.2.1 上转换纳米粒子的制备、改性及二氧化硅包覆 | 第22-23页 |
| 2.2.2 上转换荧光纳米粒子的表征 | 第23-25页 |
| 2.2.3 HNA-Phe荧光分子印迹聚合物的制备 | 第25页 |
| 2.2.4 荧光分子印迹聚合物的表征 | 第25-26页 |
| 2.2.5 吸附介质的选择 | 第26页 |
| 2.2.6 静态吸附实验 | 第26页 |
| 2.2.7 吸附动力学实验 | 第26页 |
| 2.2.8 荧光分子印迹聚合物选择性研究 | 第26-27页 |
| 2.2.9 实际样品的测定 | 第27-30页 |
| 3 结果与讨论 | 第30-62页 |
| 3.1 上转换荧光纳米材料UCNPs的发光机理 | 第30页 |
| 3.2 UCNPs合成条件的优化 | 第30-32页 |
| 3.2.1 稀土离子与氟离子的比例 | 第30-31页 |
| 3.2.2 反应时间 | 第31-32页 |
| 3.2.3 反应温度 | 第32页 |
| 3.3 上转换荧光纳米材料UCNPs改性 | 第32-33页 |
| 3.3.1 改性的机理 | 第32-33页 |
| 3.3.2 改性时间的选择 | 第33页 |
| 3.4 UCNPs@SiO_2条件优化 | 第33-34页 |
| 3.4.1 UCNPs@SiO_2反应温度 | 第33页 |
| 3.4.2 UCNPs@SiO_2反应时间 | 第33-34页 |
| 3.5 UCNPs、亲水性UCNPs及UCNPs@SiO_2的表征 | 第34-40页 |
| 3.5.1 UCNPs荧光光谱表征 | 第34-35页 |
| 3.5.2 UCNPs、亲水性UCNPs及UCNPs@SiO_2扫描电镜表征 | 第35-37页 |
| 3.5.3 UCNPs、亲水性UCNPs及UCNPs@SiO_2透射电镜表征 | 第37-38页 |
| 3.5.4 UCNPs、亲水性UCNPs及UCNPs@SiO_2的XRD表征 | 第38-39页 |
| 3.5.5 UCNPs、亲水性UCNPs及UCNPs@SiO_2的傅里叶红外光谱表征 | 第39-40页 |
| 3.6 荧光分子印迹聚合物的制备机理 | 第40-42页 |
| 3.7 荧光分子印迹聚合物合成条件的优化 | 第42-46页 |
| 3.7.1 模板分子的选择 | 第42-43页 |
| 3.7.2 功能单体的选择 | 第43页 |
| 3.7.3 交联剂的选择 | 第43页 |
| 3.7.4 模板分子、功能单体与交联剂的配比 | 第43-45页 |
| 3.7.5 催化剂种类和用量的选择 | 第45-46页 |
| 3.7.6 反应温度的选择 | 第46页 |
| 3.8 模板分子的洗脱 | 第46-47页 |
| 3.9 荧光分子印迹聚合物的表征 | 第47-49页 |
| 3.9.1 扫描电镜表征 | 第47-48页 |
| 3.9.2 傅里叶红外光谱表征 | 第48-49页 |
| 3.9.3 XRD表征 | 第49页 |
| 3.9.4 荧光稳定性的表征 | 第49页 |
| 3.10 荧光分子印迹聚合物吸附实验 | 第49-55页 |
| 3.10.1 OTA对UCNPs@SiO_2@MIPs的荧光猝灭机理分析 | 第49-50页 |
| 3.10.2 吸附介质的选择 | 第50-51页 |
| 3.10.3 静态吸附平衡实验 | 第51-52页 |
| 3.10.4 动态吸附平衡实验 | 第52-53页 |
| 3.10.5 荧光分子印迹聚合物选择性研究 | 第53-55页 |
| 3.11 分子印迹荧光传感检测法测定实际样品 | 第55-57页 |
| 3.11.1 分子印迹荧光传感检测法的建立 | 第55-56页 |
| 3.11.2 实际样品的测定 | 第56-57页 |
| 3.12 高效液相色谱-荧光法(HPLC-FLD)测定实际样品 | 第57-59页 |
| 3.12.1 赭曲霉毒素A高效液相色谱标准曲线的绘制 | 第57-58页 |
| 3.12.2 实际样品测定结果 | 第58-59页 |
| 3.13 分子印迹荧光传感法和高效液相色谱—荧光法(HPLC-FLD)的对比 | 第59-62页 |
| 4 结论 | 第62-64页 |
| 5 展望 | 第64-65页 |
| 6 参考文献 | 第65-71页 |
| 7 攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第71-72页 |
| 8 致谢 | 第72页 |
