| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-15页 |
| ·概述 | 第7-8页 |
| ·MOCVD 系统构成 | 第8-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-14页 |
| ·研究内容和论文安排 | 第14-15页 |
| 2 流体力学基础和真空技术基础 | 第15-24页 |
| ·流体力学基础 | 第15-19页 |
| ·真空技术基础 | 第19-24页 |
| 3 MOCVD 气路系统研究 | 第24-46页 |
| ·压力控制 | 第24-29页 |
| ·MO 源供应管路系统 | 第29-32页 |
| ·流量控制 | 第32-38页 |
| ·原子层沉积(ALD)技术在MOCVD 中的应用 | 第38-42页 |
| ·尾气真空管路 | 第42-46页 |
| 4 多腔体MOCVD 设备气路系统设计 | 第46-54页 |
| ·发展多腔体MOCVD 设备的必要性 | 第46-48页 |
| ·多腔体MOCVD 设备气路系统设计 | 第48-52页 |
| ·各部分管路直径确定的原则 | 第52-54页 |
| 5 总结与展望 | 第54-55页 |
| ·总结 | 第54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |