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基于边界元法的矩形冗余填充耦合电容提取方法

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-11页
   ·研究的背景和意义第7-8页
   ·国内外研究现状及问题第8-9页
   ·论文的研究目标第9-10页
   ·论文的章节安排第10-11页
第二章 CMP 冗余填充技术第11-23页
   ·化学机械抛光工艺第11-15页
     ·工艺简介第11-12页
     ·工艺描述第12-13页
     ·化学机械抛光机制研究第13-14页
     ·化学机械抛光缺陷第14-15页
   ·冗余金属填充技术第15-20页
     ·技术简介第15-16页
     ·接地和浮空第16页
     ·寄生效应的影响第16-17页
     ·冗余填充的优化第17-18页
     ·耦合电容计算方法第18-20页
   ·本章小结第20-23页
第三章 边界元法第23-35页
   ·三维电容提取方法第23-25页
     ·解析模型法第23-24页
     ·数值模拟法第24-25页
   ·边界积分方程第25-28页
     ·调和方程基本定解第25-26页
     ·泊松方程第26-27页
     ·格林公式第27-28页
   ·边界元法第28-32页
     ·边界元法简介第28页
     ·间接边界元法第28-30页
     ·直接边界元法第30-32页
   ·导体表面分块第32-34页
   ·本章小结第34-35页
第四章 用边界元法计算耦合电容第35-53页
   ·计算思想第35-36页
   ·基于边界元法的矩形冗余填充耦合电容提取方法第36-45页
     ·步骤描述第37-42页
     ·奇异点的问题第42-43页
     ·GMRES(m)算法第43-44页
     ·电容公式第44-45页
   ·算例分析第45-47页
   ·耦合电容影响因素分析第47-50页
   ·特殊填充形状的计算方法第50-52页
   ·本章小结第52-53页
第五章 总结与展望第53-55页
致谢第55-57页
参考文献第57-61页
研究成果第61-62页

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