| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-11页 |
| 1 引言 | 第11-18页 |
| ·光刻胶灰化工艺简介 | 第11-15页 |
| ·本文研究背景与意义 | 第15-18页 |
| 2 含氟气体去胶机灰化率降低机理分析 | 第18-29页 |
| ·问题简述 | 第18-19页 |
| ·实验方法 | 第19-20页 |
| ·实验结果 | 第20-27页 |
| ·灰化率保持物理化学模型的建立 | 第27-28页 |
| ·小结 | 第28-29页 |
| 3 气体扩散器表面预处理工艺的设计及其应用研究 | 第29-42页 |
| ·旧型气体扩散器存在的问题 | 第29页 |
| ·新气体扩散器表面预处理方案的设计 | 第29-33页 |
| ·实验方法 | 第33页 |
| ·实验结果与分析 | 第33-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 旧气体扩散器表面修复的研究 | 第42-54页 |
| ·旧气体扩散器灰化率下降原因分析 | 第42页 |
| ·旧气体扩散器表面修复方法的设计 | 第42-50页 |
| ·实验方法 | 第50页 |
| ·实验结果与分析 | 第50-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 5 总结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第58页 |